[發(fā)明專利]反射鏡裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201580069606.3
• 申請(qǐng)日: 2015-12-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107111246B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: Y.薩羅夫;M.霍爾茲;F.哈克;M.C.溫格勒;M.豪夫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 11105 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 邱軍

1.一種反射鏡裝置(29)，包括

1.1.具有反射鏡體(35)的至少一個(gè)反射鏡(27)，所述反射鏡體(35)具有

1.1.1.朝前的前側(cè)，

1.1.2.后側(cè)(21)，以及

1.1.3.至少一個(gè)側(cè)表面(22)，以及

1.2.至少兩個(gè)分開(kāi)的導(dǎo)電屏蔽元件(25)，

1.2.1.能夠通過(guò)至少兩個(gè)供電線路(64)對(duì)所述至少兩個(gè)分開(kāi)的導(dǎo)電屏蔽元件(25)施加不同電壓(U_r1，U_r2)；并且

1.2.2.所述至少兩個(gè)分開(kāi)的導(dǎo)電屏蔽元件(25)形成在與所述至少一個(gè)側(cè)表面(22)和/或所述后側(cè)(21)相鄰的區(qū)域中產(chǎn)生電場(chǎng)的機(jī)構(gòu)。

2.如權(quán)利要求1所述的反射鏡裝置(29)，其特征在于，所述導(dǎo)電屏蔽元件(25)中的至少一個(gè)布置在所述至少一個(gè)側(cè)表面(22)的區(qū)域中和/或在所述反射鏡(27)的所述后側(cè)(21)上或后面的區(qū)域中。

3.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡裝置(29)，其特征在于電壓源(63)，所述電壓源(63)對(duì)所述導(dǎo)電屏蔽元件(25)中的至少一個(gè)施加-300V至300V范圍內(nèi)的電壓。

4.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡裝置(29)，其特征在于控制裝置(60)，所述控制裝置(60)控制對(duì)所述導(dǎo)電屏蔽元件(25)中的至少一個(gè)所施加的電壓。

5.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡裝置(29)，其特征在于，能夠通過(guò)所述反射鏡體(35)中的供電線路對(duì)所述導(dǎo)電屏蔽元件(25)施加電壓(U_r1，U_r2)。

6.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡裝置(29)，其特征在于，至少兩個(gè)導(dǎo)電屏蔽元件(25)布置在所述反射鏡體(35)中的一個(gè)的不同側(cè)表面(22)中或上。

7.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡裝置(29)，其特征在于，所述反射鏡裝置包括多個(gè)反射鏡(27)。

8.如權(quán)利要求7所述的反射鏡裝置(29)，其特征在于，至少一個(gè)導(dǎo)電屏蔽元件(25)分別布置在兩個(gè)相鄰反射鏡(27)之間的空隙后面的區(qū)域中。

9.如權(quán)利要求7所述的反射鏡裝置(29)，其特征在于，兩個(gè)導(dǎo)電屏蔽元件(25)分別成對(duì)布置在相鄰反射鏡(27)的相對(duì)的側(cè)表面(22)的區(qū)域中。

10.一種投射曝光設(shè)備(1)的照明光學(xué)單元(4)，包括至少一個(gè)如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)中所述的反射鏡裝置(29)。

11.一種微光刻投射曝光設(shè)備(1)的照明系統(tǒng)(2)，包括

11.1.如權(quán)利要求10所述的照明光學(xué)單元(4)，以及

11.2.產(chǎn)生照明輻射(10)的輻射源(3)。

12.一種微光刻投射曝光設(shè)備(1)，包括

12.1.如權(quán)利要求10所述的照明光學(xué)單元(4)，以及

12.2.投射光學(xué)單元(7)，所述投射光學(xué)單元(7)將照明輻射(10)從物場(chǎng)(5)投射到像場(chǎng)(8)中。

13.一種制造微結(jié)構(gòu)化或納米結(jié)構(gòu)化部件的方法，

13.1.提供掩模母版(30)，

13.2.提供晶片，所述晶片具有對(duì)照明輻射(10)敏感的涂層，

13.3.借助于如權(quán)利要求12所述的微光刻投射曝光設(shè)備(1)，將所述掩模母版(30)的至少一個(gè)區(qū)段投射到所述晶片上，

13.4.將所述晶片上已經(jīng)由所述照明輻射(10)曝光的光敏層顯影。