[發明專利]雙能量射線照相中的運動校正方法有效
| 申請號: | 201580068883.2 | 申請日: | 2015-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN106999136B | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發明(設計)人: | T.伯坦斯 | 申請(專利權)人: | 愛克發有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 孫鵬;劉春元 |
| 地址: | 比利時*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 能量 射線 照相 中的 運動 校正 方法 | ||
1.一種用于在雙能量射線照相成像方法中校正運動偽像的方法,包括全局位置校正步驟,所述全局位置校正步驟全局地校正相同對象的高能和低能射線照相原生圖像的至少一個中的像素的位置,其后面是局部位置校正步驟,所述局部位置校正步驟局部地校正全局校正的圖像中的像素位置,
其中所述全局位置校正步驟包括:
- 針對所述低能和高能原生圖像之一中的多個預定義的控制點,使用以所述控制點為中心的局部圖像補丁來確定多個平移偏移的局部接近度值,
- 從所確定的接近度值導出針對所述控制點中的每個的位移矢量,
- 從所述位移矢量推導出針對翹曲變換的翹曲系數,
- 將所述翹曲變換應用到所述低能和高能原生圖像之一以獲得全局校正的圖像,并且
其中所述全局校正的圖像通過下列各項被進一步局部校正:
- 在所述全局校正的圖像和未全局校正的低能或高能原生圖像中定義多個重疊瓦片,
- 計算針對所述瓦片中的每個的局部位移矢量,
- 使用所述局部位移矢量來構建位移圖,
- 將所述位移圖應用到所述全局校正的圖像。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述翹曲變換是雙線性翹曲變換。
3.根據權利要求1所述的方法,其中所述成像方法是胸部成像方法,并且所述控制點是基本上描繪胸部圖像中的肺野的四邊形的拐角點。
4.根據權利要求3所述的方法,其中定義并使用另外的控制點來導出所述位移矢量。
5.根據權利要求1所述的方法,其中所述位移矢量是針對其而言為所述多個平移偏移獲得的所述局部接近度值達到最大值并且超過預定義閾值的平移偏移。
6.根據權利要求3所述的方法,其中所述局部接近度值被定義為以所述低能和高能原生圖像中的一個中的所述拐角點為中心的圖像補丁和所述低能和高能原生圖像中的另一個的模板的交叉相關系數。
7.根據權利要求6所述的方法,其中所述低能和高能原生圖像中的至少一個被用乘法解調。
8.根據權利要求5所述的方法,其中所述局部接近度值被定義為所述低能和高能原生圖像之一中的圖像補丁和另一原生圖像的模板的交叉相關系數。
9.根據權利要求8所述的方法,其中所述全局校正的圖像和所述非全局校正的原生圖像中的至少一個被用乘法解調。
10.根據權利要求1所述的方法,其中通過將插值應用到所述位移圖的值來計算針對每個像素的位移矢量。
11.根據權利要求1所述的方法,其中使用雙線性插值來將所述位移圖應用到全局校正的圖像。
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