[發明專利]渦旋流體機械有效
| 申請號: | 201580066851.9 | 申請日: | 2015-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN107002673B | 公開(公告)日: | 2019-10-01 |
| 發明(設計)人: | 竹內真實;小野川英;桑原孝幸 | 申請(專利權)人: | 三菱重工制冷空調系統株式會社 |
| 主分類號: | F04C18/02 | 分類號: | F04C18/02;F01C1/02;F01C21/08;F01C21/10 |
| 代理公司: | 上海華誠知識產權代理有限公司 31300 | 代理人: | 崔巍 |
| 地址: | 日本國東京都*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 渦圈 漩渦狀 渦旋流體機械 渦旋盤 加工 方向設置 接觸不良 精度降低 生產效率 不連續 后側面 減薄部 階梯部 前側面 齒頂 減薄 咬合 | ||
1.一種渦旋流體機械,其具備一對固定渦旋盤及回旋渦旋盤,所述固定渦旋盤及回旋渦旋盤在端板上直立設置有漩渦狀渦圈,所述漩渦狀渦圈彼此相互對向、咬合;
在所述固定渦旋盤及回旋渦旋盤的至少任一者的端板上,設置有沿直立設置于所述任一者的端板的所述漩渦狀渦圈中心側高度較高、外周側高度較低的階梯部,并且
在所述固定渦旋盤及回旋渦旋盤的另外任一者的所述漩渦狀渦圈上,對應于所述任一者的所述端板的所述階梯部,設置有沿所述另外任一者的所述漩渦狀渦圈中心側高度較低、外周側高度較高的階梯部;
所述渦旋流體機械特征在于:對應于所述另外任一者的所述漩渦狀渦圈的渦圈高度因所述另外任一者的所述漩渦狀渦圈的所述階梯部而發生變化的位置,在所述渦旋盤的所述任一者的所述漩渦狀渦圈的基部形成有與所述渦圈高度發生變化的位置的外周側和中心側的基部相比加工精度降低的錐形狀的凸部;
在與形成有所述凸部的所述渦旋盤咬合的對象渦旋盤的至少任一者或兩者的所述漩渦狀渦圈的齒頂部分的前側面或后側面上,對應于所述凸部,沿減薄渦圈厚度的方向設置有減薄部,以跨越因至少所述渦圈高度發生變化而使加工不連續的部位。
2.根據權利要求1所述的渦旋流體機械,其特征在于,所述減薄部通過在除所述減薄部以外的所述漩渦狀渦圈的渦圈面上設置表面處理皮膜而形成。
3.一種渦旋流體機械,其具備一對固定渦旋盤及回旋渦旋盤,所述固定渦旋盤及回旋渦旋盤在端板上直立設置有漩渦狀渦圈,所述漩渦狀渦圈彼此相互對向、咬合;
所述渦旋流體機械特征在于:在所述固定渦旋盤及回旋渦旋盤的至少任一者或兩者的所述漩渦狀渦圈的基部,形成有因加工所述漩渦狀渦圈的刀具的推力產生變化使加工精度降低而產生的錐形狀的凸部;
在所述固定渦旋盤及回旋渦旋盤的至少任一者或兩者的所述漩渦狀渦圈的齒頂部分的前側面或后側面上,對應于所述凸部,沿減薄渦圈厚度的方向設置有減薄部;
所述減薄部通過在除所述減薄部以外的所述漩渦狀渦圈的渦圈面上設置表面處理皮膜而形成。
4.一種渦旋流體機械,其具備一對固定渦旋盤及回旋渦旋盤,所述固定渦旋盤及回旋渦旋盤在端板上直立設置有漩渦狀渦圈,所述漩渦狀渦圈彼此相互對向、咬合;
所述渦旋流體機械特征在于:在所述固定渦旋盤及回旋渦旋盤的至少任一者或兩者的所述漩渦狀渦圈的基部,形成有因加工所述漩渦狀渦圈的刀具的推力產生變化使加工精度降低而產生的錐形狀的凸部,在形成有所述凸部的所述基部前側面或后側面上,對應于所述凸部,沿減薄渦圈厚度的方向設置有減薄部;
所述減薄部通過在除所述減薄部以外的所述漩渦狀渦圈的渦圈面上設置表面處理皮膜而形成。
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F04C 旋轉活塞或擺動活塞的液體變容式機械
F04C18-00 專門適用于彈性流體的旋轉活塞式泵
F04C18-02 .弧形嚙合式的,即各配合元件具有圓弧形傳送運動,每一元件都具有相同數量的齒或齒的等同物
F04C18-08 .相互嚙合式的,即具有與齒輪傳動相似的配合元件的嚙合
F04C18-22 .內軸式,與其配合元件在相互嚙合處具有同方向的運動,或其中的一個配合元件是固定的,內部元件比外部有更多的齒或齒的等同物
F04C18-24 .反向嚙合的,即配合元件在相互嚙合處的運動方向相反
F04C18-30 .具有F04C 18/02,F04C 18/08,F04C 18/22,F04C 18/24,F04C 18/48各組中兩組或多組所包含的特征,或具有這些組中的某一組所包含的特征,還具有配合元件之間的





