[發明專利]流體施加裝置中的偏流器

有效

• 申請號: 201580066688.6
• 申請日: 2015-12-21
• 公開（公告）號: CN107107087B
• 公開（公告）日: 2021-03-02
• 發明（設計）人: 梅爾·斯蒂文·萊斯利;小愛德華·W·博爾亞德
• 申請（專利權）人: 伊利諾斯工具制品有限公司
• 主分類號: B05B12/04
• 分類號: B05B12/04;D04H1/655;B05C11/10;B05C5/02
• 代理公司: 上海脫穎律師事務所 31259
• 代理人: 脫穎

1.一種用于流體施加裝置的偏流器，所述偏流器包括：

插頭，所述插頭被配置成用于可移除的插入在流體輸入導管和兩個或更多個流體輸出導管之間的施加器頭部中，所述插頭包括兩個或更多個通道，每個通道與所述流體輸入導管和所述兩個或更多個流體輸出導管中的相應的流體輸出導管流體連通，所述兩個或更多個通道形成于所述插頭的外表面上；

其中在所述插頭上，所述兩個或更多個通道中的每一個通道與所述兩個或更多個通道中的每個其他通道流體分離；

其中所述兩個或更多個通道中的至少一個通道包括多個周向的流動節段和流體連接所述多個周向的流動節段的軸向延伸的連接通道；并且

其中所述多個周向的流動節段包括至少第一周向的流動節段和第二周向的流動節段，所述第二周向的流動節段在所述插頭上相對于所述第一周向的流動節段軸向設置在外，并且其中所述第二周向的流動節段被配置成經由所述軸向延伸的連接通道接收來自所述第一周向的流動節段的流體。

2.如權利要求1所述的偏流器，其中所述兩個或更多個通道中的一個通道被配置成允許與所述兩個或更多個通道中的另一個通道具有不同的體積流率。

3.如權利要求1所述的偏流器，其中所述兩個或更多個通道包括第一、第二和第三通道。

4.如權利要求3所述的偏流器，其中所述第二通道被安置在所述第一通道和所述第三通道之間，并且所述第一通道、所述第二通道和所述第三通道中的至少一個通道被配置成提供與所述第一通道、所述第二通道和所述第三通道中的其他通道不同的體積流率。

5.一種流體施加裝置，包括：

施加器頭部，所述施加器頭部具有在內部形成的歧管，所述歧管包括流體輸入導管、兩個或更多個流體輸出導管、以及室，所述室被設置在所述流體輸入導管和所述兩個或更多個流體輸出導管之間并且流體連接所述流體輸入導管和所述兩個或更多個流體輸出導管；

在所述施加器頭部上的外部附接表面，所述外部附接表面被配置成具有選擇性地并且可移除地固定到所述外部附接表面的兩個或更多個噴嘴，每個噴嘴被配置成從所述兩個或更多個流體輸出導管中的相應的流體輸出接收所述流體；以及

可移除地設置在所述室中的偏流器，所述偏流器包括具有兩個或更多個通道的插頭，每個通道與所述流體輸入導管和所述兩個或更多個流體輸出導管中的相應的流體輸出導管流體連通，

其中所述流體輸入導管被配置成從供應源接收流體，并且所述兩個或更多個流體輸出導管被配置成將所述流體從所述施加器頭部排放到相應的噴嘴。

6.如權利要求5所述的流體施加裝置，其中所述兩個或更多個通道中的一個通道被配置成允許與所述兩個或更多個通道中的另一個通道具有不同的體積流率。

7.如權利要求5所述的流體施加裝置，其中所述兩個或更多個通道被形成在所述插頭的外表面上。

8.如權利要求7所述的流體施加裝置，其中所述更多個通道包括第一、第二和第三通道。

9.如權利要求8所述的流體施加裝置，其中所述第二通道被安置在所述第一通道和所述第三通道之間，并且所述第一通道、所述第二通道和所述第三通道中的至少一個通道被配置成提供與所述第一通道、所述第二通道和所述第三通道中的其他通道不同的體積流率。

10.如權利要求5所述的流體施加裝置，進一步包括被安置在所述兩個或更多個通道中的每個通道的上游并且與所述兩個或更多個通道中的所述每個通道流體連通的公用通道。

11.如權利要求10所述的流體施加裝置，其中所述公用通道在所述插頭內部延伸并且所述兩個或更多個通道從所述兩個或更多個通道的外圓周表面向內延伸至所述公用通道。

12.如權利要求10所述的流體施加裝置，其中所述更多個通道包括三個通道。