[發(fā)明專利]用于處理基板的設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580066253.1 | 申請日: | 2015-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN107210254A | 公開(公告)日: | 2017-09-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 斯蒂芬-海因里希·漢森;馬庫斯·尤赫倫;貝恩德-烏韋·桑德;斯蒂芬·亞歷克西斯·佩狄亞狄塔基斯 | 申請(專利權(quán))人: | 雷納技術(shù)有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L21/677 | 分類號: | H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京金恒聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所11324 | 代理人: | 李強 |
| 地址: | 德國古滕巴赫*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 處理 設(shè)備 | ||
1.一種用液體(4)處理基板(14)的設(shè)備(24,24a-d),其特征在于:
-輸送裝置(26),借助該輸送裝置基板(14)可沿輸送方向(18)被輸送通過容納液體(4)的容器(28);
-擋板(30,40,52,58,64,70),它具有邊緣(32,44,54,60,74),該邊緣(32,44,54,60,74)能夠被所述基板(14)經(jīng)過,該邊緣(32,44,54,60,74)的至少一段相對于所述基板(14)的輸送方向(18)傾斜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(24a),其特征在于:
邊緣(44)在至少兩條輸送道(36)上延伸并且在該至少兩條輸送道(36)之間具有不一致的邊緣輪廓(42)。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的設(shè)備(24b),其特征在于:
邊緣(54)在至少兩條輸送道(36)上延伸并且在該至少兩條輸送道(36)之間具有一致的邊緣輪廓(56)。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求之一所述的設(shè)備(24c),其特征在于:邊緣(60)具有在每個點處均可求導的邊緣輪廓(62)。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備(24a),其特征在于:邊緣(44)在至少一條輸送道(36)內(nèi)具有不一致的邊緣輪廓(42)。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的裝置(24c),其特征在于:
邊緣(60)的至少一段包括圓滑的、優(yōu)選是正弦曲線的邊緣輪廓(62)。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備(24a-c),其特征在于:
其中邊緣(44,54,60)在超過兩條輸送道的范圍上延伸,且優(yōu)選地在至少三條輸送道的范圍上延伸,并且特別優(yōu)選地在所有輸送道的范圍上延伸。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備(24,24a-d),其特征在于:
在所述擋板(30,40,52,58,64,70)的前面和后面設(shè)置有輸送輥(34),借助輸送輥(34)所述基底(14)被輸送通過容納所述液體(4)的容器(28)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備(24,24a-d),其特征在于:邊緣(32,44,54,60,74)在一個間隔距離的至少50%且優(yōu)選地至少75%且特別優(yōu)選地至少95%的范圍上延伸,該間隔距離是從沿著輸送方向(18)在擋板(30,40,52,58,64,70)前方的最后一個輸送輥(34)沿輸送方向到布置在擋板(30,40,52,58,64,70)后方的第一輸送輥的距離。
10.根據(jù)權(quán)利要求8至9中任一項所述的設(shè)備(24d),其特征在于至少一個輸送輥(34)的旋轉(zhuǎn)軸(66)穿過擋板(64)。
11.一種用于用液體(4)處理基板(14)的設(shè)備(24,24a-d)中的擋板(30,40,52,58,64,70),其特征在于擋板的邊緣(32,44,54,60,74)的至少一部分是傾斜延伸的。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的擋板(40,52,58,70),其特征在于邊緣(44,54,60,74)具有至少一個突出部(46)或至少一個凹部,優(yōu)選地是一個突出部(46)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的擋板(40,70),其特征在于邊緣(44,47)的至少一部分具有鋸齒形輪廓(50)。
14.根據(jù)權(quán)利要求11至13中任一項所述的擋板(70),其特征在于邊緣(74)具有不平坦的、優(yōu)選波紋狀的高度輪廓(76)。
15.根據(jù)權(quán)利要求11至14中任一項所述的擋板
(30,40,52,58,64,70),其特征在于擋板(30,40,52,58,64,70)被整體地制成,優(yōu)選地通過從一個坯體(72)的材料去除而被制成。
16.根據(jù)權(quán)利要求11至15中任一項所述的擋板(64),其特征在于用于接收旋轉(zhuǎn)軸(66)的至少一個開口(68)。
17.根據(jù)權(quán)利要求11至16中任一項所述的擋板(30,40,52,58,64,70)在根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的設(shè)備(24,24a-d)中的用途。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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