[發(fā)明專利]散熱基板和該散熱基板的制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580065996.7 | 申請(qǐng)日: | 2015-11-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107004654A | 公開(公告)日: | 2017-08-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 福井彰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社半導(dǎo)體熱研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L23/373 | 分類號(hào): | H01L23/373;H01L23/12;H01L23/36 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11277 | 代理人: | 劉新宇,李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 散熱 制造 方法 | ||
1.一種散熱基板的制造方法,其特征在于,
制作將Mo或W的顆粒、和Cu作為主要成分的合金復(fù)合體,
對(duì)所述合金復(fù)合體進(jìn)行致密化,
對(duì)所述致密化后的合金復(fù)合體進(jìn)行橫軋。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散熱基板的制造方法,其特征在于,
在所述橫軋之前,對(duì)所述致密化了的合金復(fù)合體進(jìn)行固相處理。
3.一種散熱基板的制造方法,其特征在于,
制作將90wt%以上為15μm以上且200μm以下的Mo或W的顆粒、和Cu作為主要成分的CuMo或CuW的合金復(fù)合體,
對(duì)所述合金復(fù)合體進(jìn)行致密化而使該合金復(fù)合體的相對(duì)密度提高,
對(duì)該致密化后的合金復(fù)合體進(jìn)行固相燒結(jié),
對(duì)所述固相燒結(jié)后的合金復(fù)合體進(jìn)行橫軋,
由此制造在平行于表面的面內(nèi)的任意方向上、在25℃以上且800℃以下的線膨脹系數(shù)的最大值為10ppm/K以下、在溫度200℃下的熱導(dǎo)率為250W/m·K以上的散熱基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的散熱基板的制造方法,其特征在于,
通過對(duì)所述合金復(fù)合體進(jìn)行軋制來進(jìn)行所述致密化而使該合金復(fù)合體的相對(duì)密度為99%以上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的散熱基板的制造方法,其特征在于,
在進(jìn)行裝罐并脫氣的狀態(tài)下進(jìn)行所述軋制。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的散熱基板的制造方法,其特征在于,
在進(jìn)行所述橫軋之前,對(duì)所述致密化了的合金復(fù)合體實(shí)施金屬的鍍覆處理。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的散熱基板的制造方法,其特征在于,
所述橫軋是溫軋、熱軋、冷軋或組合了它們的橫軋。
8.一種散熱基板,其特征在于,
其是以將Mo或W的顆粒、和Cu作為主要成分的合金復(fù)合體為主體的散熱基板,
在平行于表面的面內(nèi)的任意方向上、在25℃以上且800℃以下的X軸和Y軸的最大線膨脹系數(shù)為10ppm/K以下、在200℃下的熱導(dǎo)率為250W/m·K以上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的散熱基板,其特征在于,
分布于所述散熱基板的內(nèi)部的所述Mo或W的顆粒為擴(kuò)散在平行于所述散熱基板的表面的面內(nèi)的扁平的形狀,該Mo或W的顆粒的90wt%以上的顆粒在所述面內(nèi)的最大直徑為17μm以上且366μm以下。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的散熱基板,其特征在于,
在所述合金復(fù)合體的表面形成有厚度1μm以上的金屬層。
11.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的散熱基板,其特征在于,
分別在所述合金復(fù)合體的表面和背面形成有1個(gè)至多個(gè)金屬層。
12.一種半導(dǎo)體用封裝體,其特征在于,
其具備權(quán)利要求8至11中任一項(xiàng)所述的散熱基板。
13.一種半導(dǎo)體用組件,其特征在于,
其具備權(quán)利要求8至11中任一項(xiàng)所述的散熱基板。
14.一種半導(dǎo)體組件,其特征在于,
在權(quán)利要求8至11中任一項(xiàng)所述的散熱基板的表面隔著Ni系鍍層所實(shí)施的軟釬焊的孔隙率為5%以下。
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