[發明專利]水性涂布液、膜及其制造方法、層疊體以及太陽能電池模塊

在審

• 申請號: 201580065615.5
• 申請日: 2015-09-29
• 公開（公告）號: CN106999982A
• 公開（公告）日: 2017-08-01
• 發明（設計）人: 細田英正;伊藤滋英;河野哲夫
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: B05D7/24
• 分類號: B05D7/24;B32B9/00;C09D1/00;H01L31/0216;H01L31/18
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 龐東成,張志楠

技術領域

本發明涉及一種水性涂布液、膜及其制造方法、層疊體以及太陽能電池模塊。

背景技術

含有二氧化硅微粒的水性涂布液使用的是包含水的溶劑，所形成的膜的表面能低且透明性優異，由此使用于各種用途。作為其用途，例如可以舉出防反射膜、光學透鏡、光學過濾器、各種顯示器的薄層薄膜晶體管(TFT)用平坦化膜、防結露膜、防污膜及表面保護膜等。其中，防反射膜及防污膜因能夠使用于例如太陽能電池模塊、監控攝像機、照明設備、標簽等的保護膜而有用。

關于使用于防污膜等的用途的含有二氧化硅微粒的水性涂布液，近年來，已提出有各種方案。

例如，作為可以將水性液均勻地涂布于具有排斥性質的涂膜表面的防污涂層液，提出有含有二氧化硅微粒、水及表面活性劑作為必要成分，且實質上不含有醇的防污涂層液(例如，參考日本專利2010-138358號公報)。

并且，作為對硬質表面的防污效果優異且也具有易洗效果的防污劑，提出有含有帶正電的平均粒徑為1nm～100nm的二氧化硅類化合物及水的硬質表面用防污劑(例如，參考日本特開2002-3820號公報)。

發明內容

發明要解決的技術課題

可是，對于設置在室外長期使用的太陽能電池模塊、監控攝像機等的保護膜，不僅要求防污性，還要求防反射性及耐劃傷性。

然而，通過使用記載于日本專利2010-138358號公報中的防污涂層液而形成的涂膜表面具有充分的防污性，但防反射性及耐劃傷性并不充分。并且，使用記載于日本特開2002-3820號公報中的防污劑而形成的涂膜表面具有充分的防污性，但防反射性及耐劃傷性差。

即，實際情況下，未提供有防反射性、耐劃傷性及防污劑均優異的膜。

本發明的一實施方式是鑒于上述實際情況而完成的，其課題在于提供一種可形成防反射性、耐劃傷性及防污性優異的膜的水性涂布液。

并且，本發明的一實施方式的課題在于提供一種防反射性、耐劃傷性及防污性優異的膜及其制造方法、層疊體以及太陽能電池模塊。

用于解決技術課題的手段

用于解決課題的方式包括以下方式。

[1]一種膜的制造方法，其包括：涂布膜形成工序，在基材上涂布水性涂布液而形成涂布膜，所述水性涂布液包含水、平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負電的二氧化硅粒子、多元醇型非離子表面活性劑，且pH為8～12；及涂布膜干燥工序，將涂布形成的涂布膜進行干燥。

[2]根據[1]所述的膜的制造方法，二氧化硅粒子的平均一次粒徑為6nm以下。

[3]根據[1]或[2]所述的膜的制造方法，水性涂布液的pH為9～11。

[4]根據[1]～[3]中任一個所述的膜的制造方法，水性涂布液中的多元醇型非離子表面活性劑的含量相對于水性涂布液的總質量為0.07質量％～1.0質量％。

[5]根據[1]～[4]中任一個所述的膜的制造方法，多元醇型非離子表面活性劑為具有環狀聚醚作為親水基團的多元醇型非離子表面活性劑。

[6]根據[1]～[5]中任一個所述的膜的制造方法，多元醇型非離子表面活性劑為烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑。

[7]根據[1]～[6]中任一個所述的膜的制造方法，在涂布膜干燥工序之后，還包括將干燥后的涂布膜以400℃以上且800℃以下的溫度進行燒成的涂布膜燒成工序。

[8]根據[7]所述的膜的制造方法，涂布膜燒成工序中將干燥后的涂布膜以500℃以上且800℃以下的溫度進行燒成。

[9]根據[7]或[8]所述的膜的制造方法，在涂布膜干燥工序之后，涂布膜燒成工序之前的涂布膜中的二氧化硅粒子的含量相對于涂布膜的總固體成分為64質量％～95質量％。

[10]根據[7]～[9]中任一個所述的膜的制造方法，燒成后的涂布膜的膜厚為50nm以上且350nm以下。

[11]根據[1]～[10]中任一個所述的膜的制造方法，至少干燥后的涂布膜中，由下述式(1)定義的在400nm～1100nm波長的光以5°入射時的平均反射率變化ΔR的絕對值為2.0％以上。

|平均反射率變化ΔR|＝|R_{膜形成后的基材的平均反射率}-R_{基材的平均反射率}|式(1)

[12]根據[11]所述的膜的制造方法，平均反射率變化ΔR的絕對值為2.5％以上。