[發明專利]光耦合裝置有效
| 申請號: | 201580065460.5 | 申請日: | 2015-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN107003478B | 公開(公告)日: | 2020-09-25 |
| 發明(設計)人: | 湯姆·柯林斯;馬科·蘭波尼 | 申請(專利權)人: | 華為技術有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/26 | 分類號: | G02B6/26;G02B6/42 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518129 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 耦合 裝置 | ||
1.一種光耦合裝置(10),其特征在于,包括:
光波電路LC(100);
耦合元件(200);
光波導元件(300);
其中,所述LC(100)具有第一表面區域(110);
所述耦合元件(200)附接到所述第一表面區域(110),使得光信號從所述LC(100)傳輸到所述耦合元件(200);
所述光波導元件(300)在第一接合區(202)處附接到所述耦合元件(200),使得所述光信號從所述耦合元件(200)傳輸到所述光波導元件(300);
所述耦合元件(200)用于對從所述LC(100)傳輸到所述光波導元件(300)的所述光信號進行模式轉換;
光波導(120)布置在所述LC(100)的所述第一表面區域(110)處,所述耦合元件(200)和耦合區域(20)用于將光信號傳輸到所述光波導(120);
所述光波導(120)包括:芯層(122)、上包層(123)和下包層(124);
所述上包層(123)的折射率低于所述耦合元件(200)中的光路(220)的折射率;
所述光波導(120)的所述上包層(123)包括第二凹槽(125),并且所述耦合元件(200)布置在所述第二凹槽(125)中。
2.根據權利要求1所述的光耦合裝置(10),其特征在于:
所述第一接合區(202)布置在所述耦合元件(200)的橫向表面區域(210)處;
所述耦合元件(200)的所述橫向表面區域(210)垂直于所述LC(100)的所述第一表面區域(110)延伸。
3.根據權利要求2所述的光耦合裝置(10),其特征在于:
所述耦合元件(200)是一種包括至少一個光路(220)的元件,所述至少一個光路(220)將所述第一接合區(202)與所述LC(100)的所述第一表面區域(110)光學連接。
4.根據權利要求3所述的光耦合裝置(10),其特征在于:
所述至少一個光路(220)垂直于所述橫向表面區域(210)并沿著所述耦合元件(200)的底表面區域(230)延伸。
5.根據權利要求1所述的光耦合裝置(10),其特征在于:
所述耦合元件(200)是一種用作所述LC(100)與所述光波導元件(300)之間的模式轉換器的玻璃塊。
6.根據權利要求1所述的光耦合裝置(10),其特征在于:
所述光波導(120)至少部分地沿著所述耦合元件(200)的底表面區域延伸。
7.根據權利要求1所述的光耦合裝置(10),其特征在于:
所述芯層(122)的末段(128)朝向所述光波導(120)的端(129)漸縮;或者,
所述光路(220)的末段(228)朝向所述光路(220)的端(229)漸縮。
8.根據權利要求7所述的光耦合裝置(10),其特征在于:
所述光路(220)的所述末段(228)和所述光波導(120)的所述末段(128)布置在耦合區域(20)中,在所述耦合區域(20)中光從所述光路(220)和所述光波導(120)中的一個耦合到另一個。
9.根據權利要求6至8中的一項所述的光耦合裝置(10),其特征在于:
在所述LC(100)的所述第一表面區域(110)中形成第一凹槽(130),并且第一填充材料(135)嵌入在所述第一凹槽(130)中;
所述第一填充材料(135)的折射率低于所述上包層(123)和/或下包層(124)的折射率;
所述第一填充材料(135)至少部分地沿著所述耦合元件(200)的底表面區域(230)延伸。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華為技術有限公司,未經華為技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580065460.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





