[發明專利]用于化學鍍鈀的鍍浴組合物和方法

有效

• 申請號: 201580065400.3
• 申請日: 2015-12-17
• 公開（公告）號: CN107002242B
• 公開（公告）日: 2020-02-11
• 發明（設計）人: 安德烈亞斯·韋爾特;卡塔琳娜·穆斯庫呂斯
• 申請（專利權）人: 埃托特克德國有限公司
• 主分類號: C23C18/44
• 分類號: C23C18/44
• 代理公司: 11219 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 吳潤芝;郭國清

1.一種用于鈀的化學沉積的水性鍍浴組合物，其包含

(i)至少一種鈀離子源，

(ii)至少一種用于鈀離子的還原劑，以及

(iii)0.01至50mg/l的至少一種根據式(I)的芳族化合物

其中R1選自–H、–CH₃和–CH₂-CH₃；并且

其中R4選自取代的直鏈C1至C8烷基、未取代或取代的支鏈C3至C8烷基和未取代或取代的羰基；并且

其中R2、R3、R5和R6彼此獨立地選自–H、未取代或取代的直鏈C1至C20烷基、未取代或取代的支鏈C3至C20烷基、–OH、–O-CH₃和–O-CH₂-CH₃；并且

其中所述R4的未取代或取代的羰基選自根據–(CR7R8)_n–CO–(CR9R10)_m–R11的部分，其中R7、R8、R9、R10彼此獨立地選自–H、–CH₃、–CH₂–CH₃、–OH、–O-CH₃、–O-CH₂-CH₃；

其中R11選自–CH₃、–CH₂–CH₃、–O-CH₃、–O-CH₂-CH₃、未取代或取代的苯基和未取代或取代的萘基；并且

其中n、m是彼此獨立地選自0、1和2的整數。

2.根據權利要求1所述的水性鍍浴組合物，其中所述未取代或取代的直鏈C1至C20烷基是–CH₃。

3.根據權利要求1所述的水性鍍浴組合物，其中所述直鏈C1至C8烷基、直鏈C1至C20烷基、支鏈C3至C8烷基或支鏈C3至C20烷基是取代的，并且所述取代基彼此獨立地選自未取代或取代的苯基和未取代或取代的萘基。

4.根據權利要求3所述的水性鍍浴組合物，其中所述苯基或萘基是取代的，并且所述取代基彼此獨立地選自–OH、–O-CH₃、–O-CH₂-CH₃、–CH₃和–CHO。

5.根據前述權利要求中任一項所述的水性鍍浴組合物，其中R4選自

其中R2、R3、R5和R6彼此獨立地選自

–OH、–O-CH₃和–O-CH₂-CH₃；并且

其中R1如權利要求1中所定義。

6.根據權利要求1至4中任一項所述的水性鍍浴組合物，其中所述至少一種根據式(I)的芳族化合物具有0.01至20mg/l范圍內的濃度。

7.根據權利要求5所述的水性鍍浴組合物，其中所述至少一種根據式(I)的芳族化合物具有0.01至20mg/l范圍內的濃度。

8.根據權利要求1至4中任一項所述的水性鍍浴組合物，其中所述組合物的pH值在4至7的范圍內。