[發明專利]編碼器、位置測量系統和光刻設備

有效

• 申請號: 201580065230.9
• 申請日: 2015-10-22
• 公開（公告）號: CN107003617B
• 公開（公告）日: 2018-12-11
• 發明（設計）人: W·O·普里列;J·P·巴爾特曼;A·E·科克爾;S·J·A·G·科西晉斯;B·圖-米尼
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01D5/38
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王靜

1.一種編碼器，包括：

光學部件；

具有接收表面、第一介質和第二介質的包圍裝置，

其中接收表面被布置為從周圍環境接收第一輻射束和第二輻射束，

其中光學部件被布置為組合第一輻射束和第二輻射束，

其中包圍裝置被布置為沿第一路徑傳播第一輻射束并且沿第二路徑傳播第二輻射束，

其中第一路徑和第二路徑從接收表面到光學部件，

其中包圍裝置被布置為使第一路徑和第二路徑與周圍環境隔離，

其中第一路徑至少部分地穿過第一介質，

其中第二路徑至少部分地穿過第二介質，

其中第一路徑穿過第二介質的路徑長度與第二路徑穿過第二介質的路徑長度不同，以使第一輻射束的總光學路徑長度和第二輻射束的總光學路徑長度彼此相等。

2.根據權利要求1所述的編碼器，其中第一介質的折射率小于第二介質的折射率。

3.根據權利要求2所述的編碼器，其中第一路徑具有第一路徑長度，其中第二路徑具有第二路徑長度，其中第一路徑長度大于第二路徑長度，其中第一路徑穿過第二介質的路徑長度小于第二路徑穿過第二介質的路徑長度。

4.根據權利要求1-3中任一項所述的編碼器，其中包圍裝置被布置成包圍被布置為具有氣體的空間，其中所述氣體形成第一介質。

5.根據權利要求4所述的編碼器，其中包圍裝置包括連接所述空間與周圍環境的導管，其中所述導管具有用于限制空間和周圍環境之間的氣體的流動的限制部。

6.根據權利要求5所述的編碼器，其中所述限制部包括多孔材料。

7.根據權利要求1-3中任一項所述的編碼器，其中第一介質和第二介質中的至少一個包括固體。

8.根據權利要求1-3中任一項所述的編碼器，其中所述包圍裝置包括導熱裝置，其中所述導熱裝置至少部分地包圍第一路徑和第二路徑。

9.根據權利要求1-3中任一項所述的編碼器，其中光學部件包括用于衍射第一輻射束和第二輻射束中的至少一個的光柵。

10.根據權利要求1-3中任一項所述的編碼器，其中包圍裝置被布置為使第一路徑和第二路徑與周圍環境的折射率的改變隔離。

11.一種位置測量系統，包括根據權利要求1-10中任一項所述的編碼器和光柵表面，其中所述光柵表面被布置為衍射輻射束以產生第一輻射束和第二輻射束。

12.根據權利要求11所述的位置測量系統，其中接收表面被布置為以第一角度接收第一輻射束，其中接收表面被布置為以第二角度接收第二輻射束，其中第一角度與第二角度不同。

13.根據權利要求11或12所述的位置測量系統，其中光學部件包括反射元件，所述反射元件被布置為將第一輻射束和第二輻射束反射回光柵表面，其中所述光柵表面被布置為將由反射元件反射的第一輻射束和第二輻射束衍射為單一的輻射束。

14.一種光刻設備，包括根據權利要求11-13中任一項所述的位置測量系統。

15.根據權利要求14所述的光刻設備，包括：

投影系統，所述投影系統將圖案化的輻射束投影到襯底上；

第一臺系統，所述第一臺系統用于保持被布置以在圖案化的輻射束中產生圖案的圖案形成裝置；

第二臺系統，所述第二臺系統用于保持襯底；

控制系統，所述控制系統控制第一臺系統和第二臺系統中的至少一個的位置，

其中位置測量系統被布置為給控制系統提供表示第一臺系統和第二臺系統中的至少一個的位置的信號。