[發(fā)明專利]晶體管器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580064397.3 | 申請(qǐng)日: | 2015-10-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107004702B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | H·斯林豪斯;K·邦戈;V·佩庫(kù)尼亞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 劍橋企業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/49 | 分類號(hào): | H01L29/49;H01L21/34;H01L29/786 |
| 代理公司: | 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 歐陽(yáng)帆 |
| 地址: | 英國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶體管 器件 | ||
1.一種生產(chǎn)晶體管器件的方法,包括:(a)通過(guò)包括從金屬有機(jī)前驅(qū)體的溶液形成前驅(qū)體膜以及在存在水的情況下以150-350℃之間的溫度對(duì)所述前驅(qū)體膜進(jìn)行退火的方法,形成氧化物半導(dǎo)體溝道材料的沉積物;以及(b)通過(guò)最大處理溫度小于80℃的沉積工藝將有機(jī)聚合物柵極電介質(zhì)沉積在所述氧化物半導(dǎo)體溝道材料的沉積物的頂部上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的生產(chǎn)晶體管器件的方法,其中氧化物半導(dǎo)體溝道的沉積物在沉積有機(jī)聚合物柵極電介質(zhì)之前包括10%-30%的金屬氫氧化物物質(zhì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的生產(chǎn)晶體管器件的方法,其中所述金屬有機(jī)前驅(qū)體是溶解在乙醇或水溶劑中的金屬醇鹽或金屬硝酸鹽。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的生產(chǎn)晶體管器件的方法,其中所述氧化物半導(dǎo)體溝道材料的沉積物在所述有機(jī)聚合物柵極電介質(zhì)的沉積之后包括至少10%的金屬氫氧化物物質(zhì)。
5.一種生產(chǎn)晶體管器件的方法,包括:(a)通過(guò)包括從金屬有機(jī)前驅(qū)體的溶液形成前驅(qū)體膜以及在存在水的情況下以150-350℃之間的溫度對(duì)所述前驅(qū)體膜進(jìn)行退火的方法,形成氧化物半導(dǎo)體溝道材料的沉積物;以及(b)將有機(jī)聚合物柵極電介質(zhì)沉積在氧化物半導(dǎo)體溝道的頂部上;其中所述氧化物半導(dǎo)體溝道材料的沉積物在所述有機(jī)聚合物柵極電介質(zhì)的沉積之后包括至少10%的金屬氫氧化物物質(zhì)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





