[發明專利]酚醛清漆型酚醛樹脂、其制造方法、感光性組合物、抗蝕材料、及涂膜有效
| 申請號: | 201580064208.2 | 申請日: | 2015-10-08 |
| 公開(公告)號: | CN107001550B | 公開(公告)日: | 2019-04-02 |
| 發明(設計)人: | 今田知之;佐藤勇介 | 申請(專利權)人: | DIC株式會社 |
| 主分類號: | C08G8/20 | 分類號: | C08G8/20;G03F7/023 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 酚系 核體 酚醛清漆型酚醛樹脂 感光性組合物 抗蝕材料 取代苯酚 縮合反應 二烷基 涂膜 耐熱性 烷基 羥基芳香族 芳香族醛 高靈敏度 曝光波長 酸催化劑 摩爾比 吸光度 合物 羥基 甲醛 射線 制造 | ||
提供耐熱性優異、且對g射線、h射線及i射線的曝光波長的吸光度低、高靈敏度的感光性組合物、抗蝕材料、其涂膜、及適合于這些用途的酚醛清漆型酚醛樹脂及其制造方法。具體而言,提供一種酚醛清漆型酚醛樹脂,其特征在于,其是使酚系三核體化合物(A)與甲醛在酸催化劑下進行反應而得到的,所述酚系三核體化合物(A)包含通過二烷基取代苯酚與含羥基芳香族醛的縮合反應得到的酚系三核體化合物(A1)、以及通過在2,3位、2,5位、3,4位、或3,5位的位置具有烷基的二烷基取代苯酚與不具有羥基的芳香族醛的縮合反應得到的酚系三核體化合物(A2),并且前述酚系三核體化合物(A1)與前述酚系三核體化合物(A2)的摩爾比為20:80~90:10。
技術領域
本發明涉及耐熱性優異、且對g射線、h射線及i射線的曝光波長的吸光度低、在增厚抗蝕涂膜的膜厚時也具有充分靈敏度的感光性組合物、抗蝕材料、其涂膜、及適合于這些用途的酚醛清漆型酚醛樹脂。
背景技術
作為IC、LSI等半導體制造、LCD等顯示裝置的制造、印刷原版的制造等中使用的抗蝕劑,已知有使用了堿溶性樹脂及1,2-二疊氮基萘醌化合物等光敏劑的正型光致抗蝕劑。作為前述堿溶性樹脂,提出了使用由間甲酚酚醛清漆樹脂及對甲酚酚醛清漆樹脂組成的混合物作為堿溶性樹脂的正型光致抗蝕劑組合物(例如,參照專利文獻1。)。
專利文獻1記載的正型光致抗蝕劑組合物是為了提高靈敏度等顯影性而開發的。但是,近年來,隨著半導體的高集成化高漲、圖案進一步細線化的傾向,不斷要求更優異的靈敏度,專利文獻1記載的正型光致抗蝕劑組合物存在得不到充分應對細線化的靈敏度的問題。進而,在半導體等的制造工序中實施各種熱處理,因此正型光致抗蝕劑組合物的涂膜也要求高耐熱性,但專利文獻1記載的正型光致抗蝕劑組合物存在耐熱性不充分的問題。
另外,作為具有優異靈敏度且具有高耐熱性的樹脂,提出了在使間甲酚、對甲酚、或2,3-二甲酚等酚類與芳香族醛類反應后,向所得到的反應物中添加醛類(B)并在酸催化劑下反應而得到的光致抗蝕劑用酚醛樹脂(例如,參照專利文獻2。)。該光致抗蝕劑用酚醛樹脂與現有樹脂相比,提高了靈敏度,但無法充分應對近年的高耐熱性的要求水平。
另一方面,作為堿溶性樹脂的酚醛清漆樹脂的感光度能夠提高堿溶性來升高,但提高堿溶性時,存在耐熱性降低的傾向,另外,提高耐熱性時,存在感光度降低的問題。如此,對于酚醛清漆樹脂而言,難以高水平兼顧靈敏度和耐熱性。作為靈敏度與耐熱性兩者均得以提高的樹脂,提出了以將二甲酚與含酚性羥基芳香族醛縮合而得到的酚系三核體化合物作為原料的光致抗蝕劑用的酚醛清漆型酚醛樹脂(例如,參照專利文獻3及4。)。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開平2-55359號公報
專利文獻2:日本特開平9-90626號公報
專利文獻3:日本特許第5152447號公報
專利文獻4:日本特許第5035492號公報
發明內容
專利文獻3或4記載的酚醛清漆型酚醛樹脂與以往相比以高水平兼具靈敏度和耐熱性兩者,但對光刻的曝光時使用的i射線(365nm)具有吸收。因此,該酚醛清漆型酚醛樹脂尤其在增厚抗蝕涂膜的膜厚時存在靈敏度降低的問題。
因此,本發明要解決的課題在于提供耐熱性優異、且對g射線、h射線及i射線的曝光波長的吸光度低、在增厚抗蝕膜的膜厚時也具有充分靈敏度的感光性組合物、抗蝕材料、其涂膜、及適合于這些用途的酚醛清漆型酚醛樹脂及其制造方法。
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