[發明專利]立方晶氮化硼基燒結體及立方晶氮化硼基燒結體制切削工具有效
| 申請號: | 201580064126.8 | 申請日: | 2015-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN107001155B | 公開(公告)日: | 2020-09-18 |
| 發明(設計)人: | 矢野雅大;宮下庸介 | 申請(專利權)人: | 三菱綜合材料株式會社 |
| 主分類號: | C04B35/583 | 分類號: | C04B35/583;B23B27/14 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產權代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 立方 氮化 燒結 體制 切削 工具 | ||
1.一種立方晶氮化硼基燒結體,含有70~95vol%的立方晶氮化硼粒子,其中,
觀察該燒結體的截面組織時,在相鄰的所述立方晶氮化硼粒子彼此之間存在寬度1nm以上且30nm以下的結合相,該結合相由至少包含Al、B、N的化合物構成,并且所述結合相中的氧含量相對于Al含量的比例以原子比計為0.1以下。
2.一種立方晶氮化硼基燒結體,含有70~95vol%的立方晶氮化硼粒子,其特征在于,
觀察該燒結體的截面組織時,存在相鄰的所述立方晶氮化硼粒子彼此的間隔為超過0且30nm以下的區域,該區域的結合相由Al與B中的任意一個或者包含兩者的氮化物與Al的氧化物構成,并且存在該區域的所述結合相中的氧含量相對于Al含量的比例以原子比計為0.1以下的區域。
3.根據權利要求1所述的立方晶氮化硼基燒結體,其特征在于,
在所述立方晶氮化硼基燒結體中,所述立方晶氮化硼粒子的平均粒徑為0.5~8.0μm,將所述立方晶氮化硼粒子的所述平均粒徑的5倍×5倍的視場設為一個視場,至少觀察5個視場以上的所述立方晶氮化硼基燒結體的截面組織時,在相鄰的所述立方晶氮化硼粒子之間存在寬度1nm以上且30nm以下的結合相,并且能夠在所有觀察視場數的60%以上的視場中觀察到所述結合相中的氧含量相對于Al含量的比例為0.1以下的所述立方晶氮化硼粒子的存在。
4.根據權利要求2所述的立方晶氮化硼基燒結體,其特征在于,
在所述立方晶氮化硼基燒結體中,所述立方晶氮化硼粒子的平均粒徑為0.5~8.0μm,將所述立方晶氮化硼粒子的所述平均粒徑的5倍×5倍的視場設為一個視場,至少觀察5個視場以上的所述立方晶氮化硼基燒結體的截面組織時,在相鄰的所述立方晶氮化硼粒子之間存在寬度1nm以上且30nm以下的結合相,并且能夠在所有觀察視場數的60%以上的視場中觀察到所述結合相中的氧含量相對于Al含量的比例為0.1以下的所述立方晶氮化硼粒子的存在。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的立方晶氮化硼基燒結體,其特征在于,
觀察所述立方晶氮化硼基燒結體的截面組織時,相對于該觀察截面中的所述立方晶氮化硼粒子的所有粒子數,在相鄰的所述立方晶氮化硼粒子之間存在寬度1nm以上且30nm以下的結合相的所述立方晶氮化硼粒子以0.4以上的平均粒子數比例存在,并且在相鄰的所述立方晶氮化硼粒子之間存在寬度1nm以上且30nm以下的結合相的所述立方晶氮化硼粒子中,相對于在相鄰的所述立方晶氮化硼粒子之間存在寬度1nm以上且30nm以下的結合相的所述立方晶氮化硼粒子的個數,所述結合相中的氧含量相對于Al含量的比例為0.1以下的所述立方晶氮化硼粒子的個數以0.5以上的平均比例存在。
6.根據權利要求1至4中任一項所述的立方晶氮化硼基燒結體,其特征在于,
在所述立方晶氮化硼粒子彼此之間存在的寬度1nm以上且30nm以下的所述結合相散布于所述立方晶氮化硼粒子之間。
7.根據權利要求5所述的立方晶氮化硼基燒結體,其特征在于,
在所述立方晶氮化硼粒子彼此之間存在的寬度1nm以上且30nm以下的所述結合相散布于所述立方晶氮化硼粒子之間。
8.一種立方晶氮化硼基燒結體制切削工具,其特征在于,
切削工具的切削刃部由權利要求1至7中任一項所述的所述立方晶氮化硼基燒結體構成。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于三菱綜合材料株式會社,未經三菱綜合材料株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580064126.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:4H-吡啶并[1,2-a]嘧啶-4-酮化合物
- 下一篇:膠版印刷墨液用樹脂





