[發明專利]13族元素氮化物層的分離方法及復合基板有效
| 申請號: | 201580064055.1 | 申請日: | 2015-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN107002284B | 公開(公告)日: | 2019-07-09 |
| 發明(設計)人: | 今井克宏;巖井真;下平孝直 | 申請(專利權)人: | 日本礙子株式會社 |
| 主分類號: | C30B29/38 | 分類號: | C30B29/38;C23C16/01;C30B9/00;C30B25/18;C30B33/00;H01L21/205 |
| 代理公司: | 北京旭知行專利代理事務所(普通合伙) 11432 | 代理人: | 王軼;鄭雪娜 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氮化物層 族元素 復合基板 藍寶石基板 氮化鎵鋁 氮化鋁 氮化鎵 翹曲量 晶格 照射 激光 分解 | ||
準備出包括藍寶石基板和設置在該藍寶石基板上的13族元素氮化物層的復合基板。13族元素氮化物層由氮化鎵、氮化鋁或氮化鎵鋁形成。復合基板滿足關系式(1)、(2)及(3)。通過自藍寶石基板側對復合基板照射激光來分解藍寶石基板與13族元素氮化物層的界面的晶格鍵。5.0≤(13族元素氮化物層的平均厚度(μm))/所述藍寶石基板的直徑(mm)≤10.0····(1);0.1≤所述復合基板的翹曲量(mm)×(50/所述復合基板的直徑(mm))2≤0.6····(2);1.10≤所述13族元素氮化物層的厚度的最大值(μm)/所述13族元素氮化物層的厚度的最小值(μm)····(3)。
技術領域
本發明涉及將13族元素氮化物層與藍寶石基板分離的方法及復合基板。
背景技術
已知:在藍寶石基板、GaN模板(template)等藍寶石基板上生長GaN結晶而得到復合基板后,通過激光剝離(laser lift off)等方法使GaN結晶與藍寶石基板分離,由此得到自立型的GaN結晶。
該方法中,復合基板因藍寶石基板與氮化鎵膜之間的熱膨脹率差而發生翹曲,在通過激光剝離法分離氮化鎵膜時,發生翹曲或開裂。
因此,專利文獻1中,在腔室內通過氣相法(HVPE、MOCVD、MBE)在藍寶石基板上形成氮化物單晶,并直接在相同的腔室(chamber)內于相同的溫度連續地實施激光剝離法,由此,消除了復合基板的翹曲所帶來的影響,防止了開裂的發生。
另外,本申請人通過在藍寶石基板上設置氮化鎵層時、在氮化鎵層的培養初期設置含有夾雜物(inclusion)的層,成功抑制了在激光剝離時發生開裂(專利文獻2)。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2006-188409
專利文獻2:WO 2013/021804 A
專利文獻3:日本特開2009-111423
發明內容
但是,專利文獻1中記載的方法中,在腔室內從紅外線透射窗透射激光來實施激光剝離。因此,需要特別的設備,并且,激光剝離時的照射光的利用效率較低,照射時的對位、對焦也很困難,因此,生產率較低。另外,助熔劑法等液相法中,壓力較高,無法使用這樣的附帶有紅外線透射窗的腔室,所以適用范圍狹窄。
專利文獻2中記載的方法僅能夠適用于具有特定的微結構的復合基板,因此,這也無法擴大適用范圍。
本發明的課題是:在對藍寶石基板照射激光而分離特定的13族元素氮化物層時,能夠抑制13族元素氮化物層的開裂。
本發明的特征在于,準備出包括藍寶石基板和設置在該藍寶石基板上的13族元素氮化物層的復合基板,此時,13族元素氮化物層由氮化鎵、氮化鋁或氮化鎵鋁形成,復合基板滿足以下的關系式(1)、(2)及(3),通過自藍寶石基板側對復合基板照射激光來分解藍寶石基板與13族元素氮化物層的界面的晶格鍵。
5.0≤(13族元素氮化物層的平均厚度(μm))/所述藍寶石基板的直徑(mm)≤10.0····(1)
0.1≤所述復合基板的翹曲量(mm)×(50/所述復合基板的直徑(mm))2≤0.6····(2)
1.10≤所述13族元素氮化物層的厚度的最大值(μm)/所述13族元素氮化物層的厚度的最小值(μm)····(3)
另外,本發明涉及一種復合基板,其是包括藍寶石基板和設置在該藍寶石基板上的13族元素氮化物層的復合基板,其特征在于,13族元素氮化物層由氮化鎵、氮化鋁或氮化鎵鋁形成,并且復合基板滿足上述的關系式(1)、(2)及(3)。
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