[發(fā)明專利]增材制造裝置內(nèi)的氣體流動(dòng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580063857.0 | 申請(qǐng)日: | 2015-11-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107000060B | 公開(公告)日: | 2020-03-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | F·里瓦;S·卡納格利亞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 通快喜絲瑪有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | B22F3/105 | 分類號(hào): | B22F3/105;B29C64/153;B29C64/20;B33Y30/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 劉佳斐 |
| 地址: | 意大利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 裝置 氣體 流動(dòng) | ||
1.一種用于從粉狀材料(5)增材制造三維目標(biāo)(3)的裝置(1),所述裝置(1)包括:
主體(11),所述主體提供目標(biāo)形成室(13),并且在所述主體(11)的前壁(15)內(nèi),提供用于進(jìn)入所述目標(biāo)形成室(13)的開口(17);
工作面(21),所述工作面界定了目標(biāo)形成室(13)并且具有用于在其上制造三維目標(biāo)(3)的構(gòu)建平臺(tái)區(qū)段(23A);
門(31),所述門設(shè)置在前壁(15)處并且可被定位成在關(guān)閉狀態(tài)中密封所述開口(17)并且在打開狀態(tài)中提供進(jìn)入所述目標(biāo)形成室(13)的通路;
氣體流動(dòng)系統(tǒng)(41),所述氣體流動(dòng)系統(tǒng)用于提供橫跨所述構(gòu)建平臺(tái)區(qū)段(23A)的氣體流動(dòng)(42),所述氣體流動(dòng)系統(tǒng)(41)包括在所述主體(11)內(nèi)延伸的第一主體區(qū)段(41A)和為所述門(31)的集成或附接的部分的門區(qū)段(41B),其中所述門區(qū)段(41B)包括第一開口結(jié)構(gòu)(45A),該第一開口結(jié)構(gòu)(45A)設(shè)置成在所述門的關(guān)閉狀態(tài)中將氣體釋放至所述構(gòu)建平臺(tái)區(qū)段(23A)或者從所述構(gòu)建平臺(tái)區(qū)段(23A)接收氣體。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置(1),其中所述氣體流動(dòng)系統(tǒng)(41)還包括第二主體區(qū)段(52),該第二主體區(qū)段(52)具有關(guān)于所述構(gòu)建平臺(tái)區(qū)段區(qū)段(23A)與所述第一開口結(jié)構(gòu)(45A)相反的第二開口結(jié)構(gòu)(55),其中所述第一主體區(qū)段(41A)、所述門區(qū)段(41B)和所述第二主體區(qū)段(52)提供用于通過所述目標(biāo)形成室的氣體的再循環(huán)流動(dòng)路徑。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置(1),其中所述氣體流動(dòng)系統(tǒng)(41)被配置成在所述三維目標(biāo)(3)的制造期間將氣體從所述第一開口結(jié)構(gòu)(45A)和所述第二開口結(jié)構(gòu)(55)中的一個(gè)釋放到所述目標(biāo)形成室中并且在所述門(31)的關(guān)閉狀態(tài)中從相應(yīng)的另一開口接收包括煙的氣體。
4.如權(quán)利要求1-3中的任一項(xiàng)所述的裝置(1),其中所述第一主體區(qū)段(41A)包括主體部分(43A)并且所述門區(qū)段(41B)包括門端口(43B),所述門端口相對(duì)于彼此設(shè)置以在所述門(31)的關(guān)閉狀態(tài)中在所述第一主體區(qū)段(41A)和所述門區(qū)段(41B)之間提供流體連接。
5.如權(quán)利要求4所述的裝置(1),還包括用于沿著圍繞所述開口(17)的周向密封路徑在所述門(31)和所述前壁(15)之間提供密封的門密封系統(tǒng),將所述目標(biāo)形成室(13)密封成氣密,
其中所述第一主體區(qū)段(41A)和所述門區(qū)段(41B)之間的流體連接被設(shè)置在密封的所述目標(biāo)形成室(13)內(nèi),從而所述流體連接的泄漏被釋放到密封的所述目標(biāo)形成室(13)內(nèi)。
6.如權(quán)利要求1-3中的任一項(xiàng)所述的裝置(1),其中所述氣體流動(dòng)系統(tǒng)(41)還包括在相應(yīng)的開口結(jié)構(gòu)(45A、55)下游或者在接收氣體處被連接至所述開口結(jié)構(gòu)(45A、55)的過濾器單元(71)。
7.如權(quán)利要求5所述的裝置(1),其中所述門(31)包括由所述密封路徑界定的內(nèi)表面(47),并且其中所述門端口(43B)被設(shè)置在所述內(nèi)表面(47)上;和/或
所述門(31)包括門板(131),和至少一個(gè)通道(137)和/或至少一個(gè)通道單元(141B),其中所述至少一個(gè)通道(137)和/或至少一個(gè)通道單元(141B)流體地連接,作為所述氣體流動(dòng)系統(tǒng)(41)的所述門區(qū)段(41B)的一部分,至少一個(gè)開口結(jié)構(gòu)包括具有所述門端口(43B)的所述第一開口結(jié)構(gòu)(45A),并且其中所述至少一個(gè)通道(137)被集成在所述門板(131)中并且所述至少一個(gè)通道單元(141B)被附接到所述門(31)上并且在所述內(nèi)表面(47)上延伸。
8.如權(quán)利要求2或3所述的裝置(1),其中所述第一開口結(jié)構(gòu)(45A)和/或所述第二開口結(jié)構(gòu)(55)相對(duì)于所述構(gòu)建平臺(tái)區(qū)段(23A)和/或沿所述開口(17)的側(cè)向方向、面對(duì)所述構(gòu)建平臺(tái)區(qū)段(23A)地位于0cm至5cm的高度處。
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