[發明專利]用于氮化鋁(ALN)PVD工藝的氣冷的最小接觸面積(MCA)的靜電吸盤(ESC)

有效

• 申請號: 201580063578.4
• 申請日: 2015-11-04
• 公開（公告）號: CN107002222B
• 公開（公告）日: 2021-04-06
• 發明（設計）人: 布賴恩·T·韋斯特;諾吉·A·賈金德拉;桑德拉賈·吉姆布林甘姆
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C16/455;C23C16/46;H01L21/67;H01L21/683;H02N13/00
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種靜電吸盤組件，包括：

靜電吸盤，所述靜電吸盤具有被控制在390攝氏度至405攝氏度內的溫度變化；

冷卻板，經設置處于與所述靜電吸盤接觸，所述冷卻板具有形成于所述冷卻板中的氣體通道；以及

氣體箱，所述氣體箱具有氣體返回入口、氣體返回出口、冷卻氣體入口、冷卻氣體出口和熱交換器，所述冷卻氣體出口與所述熱交換器隔離且耦接至在所述冷卻板中的所述氣體通道的第一端，所述冷卻氣體出口耦接至從冷卻氣體源接收冷卻氣體的所述冷卻氣體入口，所述氣體返回入口耦接至在所述冷卻板中的所述氣體通道的第二端，所述氣體返回入口被耦接通過所述熱交換器而至所述氣體返回出口，所述氣體箱可操作以控制通過所述氣體通道的冷卻氣體的流量，用以維持所述靜電吸盤的溫度在390攝氏度和405攝氏度之間，且所述熱交換器適合用以將所述冷卻氣體從所述氣體返回入口處的200攝氏度冷卻至所述氣體返回出口處，所述冷卻氣體從所述氣體返回出口排出，并且由所述冷卻氣體源回收或再利用。

2.如權利要求1所述的靜電吸盤組件，其中所述氣體箱進一步包括：

流量控制閥，所述流量控制閥可操作以控制通過所述氣體通道的冷卻氣體的所述流量。

3.如權利要求1所述的靜電吸盤組件，其中所述冷卻板由銅制成。

4.如權利要求1所述的靜電吸盤組件，其中形成于所述冷卻板中的所述氣體通道包括槽。

5.如權利要求1所述的靜電吸盤組件，其中形成于所述冷卻板中的所述氣體通道對于200 mm ESC而言至少20.0英寸長。

6.一種處理腔室，包括：

腔室主體，具有壁、蓋和底部，所述腔室主體限定內部處理容積；

氣冷的靜電吸盤組件，所述氣冷的靜電吸盤組件包括靜電吸盤，所述靜電吸盤具有被控制在390攝氏度至405攝氏度內的溫度變化，且所述氣冷的靜電吸盤組件設置在所述腔室主體的所述處理容積中，所述氣冷的靜電吸盤組件具有冷卻板，所述冷卻板具有氣體通道，所述氣體通道具有第一端和第二端；以及

氣體箱，所述氣體箱具有氣體返回入口、氣體返回出口、冷卻氣體入口、冷卻氣體出口和熱交換器，所述熱交換器耦接至所述氣體返回入口和所述氣體返回出口，并且所述冷卻氣體出口與熱交換器隔離，其中所述氣體箱經構造以控制至在所述冷卻板中的所述氣體通道的所述第一端的冷卻氣體的流量，所述冷卻氣體由冷卻氣體源提供，并從在所述冷卻板中的所述氣體通道的所述第二端接收所述冷卻氣體，并且其中所述氣體箱經構造以維持所述靜電吸盤的溫度在390攝氏度和405攝氏度之間，且所述熱交換器適合用以將所述冷卻氣體從所述氣體返回入口處的200攝氏度冷卻至所述氣體返回出口處，所述冷卻氣體從所述氣體返回出口排出，并且由所述冷卻氣體源回收或再利用。

7.如權利要求6所述的處理腔室，其中所述氣體箱進一步包括：

熱交換器，經構造以控制由所述氣體箱輸送至所述冷卻板的氣體通道的所述冷卻氣體的溫度。

8.如權利要求6所述的處理腔室，其中形成于所述冷卻板中的所述氣體通道包括槽。

9.如權利要求6所述的處理腔室，其中形成于所述冷卻板中的所述氣體通道對于200mm ESC而言至少20.0英寸長。