[發明專利]玻璃制造設備和方法在審
| 申請號: | 201580063053.0 | 申請日: | 2015-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN107001101A | 公開(公告)日: | 2017-08-01 |
| 發明(設計)人: | G·B·庫克;L·茹鮑德;I·A·尼庫林;A·V·威爾斯 | 申請(專利權)人: | 康寧股份有限公司 |
| 主分類號: | C03B18/02 | 分類號: | C03B18/02;C03B18/18 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司31100 | 代理人: | 高宏偉,江磊 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃 制造 設備 方法 | ||
相關申請的交叉引用
本申請依據35U.S.C.§119要求2014年9月22日提交的美國臨時申請系列號62/053386的優先權,本申請以其內容為基礎,并通過參考將其全文納入本文。
技術領域
本公開總體上涉及玻璃制造設備和方法,更具體而言,涉及采用浮法的玻璃制造設備和方法。
背景
玻璃制造設備和方法被用于形成可被軋制成卷材或分割成玻璃板的玻璃帶。玻璃帶可被用于顯示器以及其它應用。采用浮法的玻璃制造設備和方法包括浮浴,玻璃帶漂浮在浮浴上,并在浮浴上對玻璃帶進行拉制。
發明概述
下文對本公開進行了簡單的小結,以提供對于詳述中所描述的一些示例性的方面的基本理解。
在本公開的第一方面中,一種玻璃制造設備包含成形裝置、殼體、多個輥和加熱裝置。殼體包含浮浴和多個至少部分設置在殼體內的輥。多個輥配置成將玻璃帶從成形裝置中拉出、沿著拉制路徑通過殼體和浮浴的上方。加熱裝置配置成對玻璃帶的局部厚度進行選擇性控制,所述局部厚度主要由玻璃帶的多個離散位置處的第一主表面和第二主表面之間的玻璃定義。
在第一方面的一個例子中,在多個離散位置的每一個處,加熱裝置配置成選擇性地升高玻璃帶的多個離散位置中的至少一處的局部溫度,并且配置成選擇性地降低玻璃帶的多個離散位置中的至少一處的局部溫度。
在第一方面的另一個例子中,玻璃制造設備還包含控制器。所述控制器配置成操控加熱裝置對多個離散位置的每一處的玻璃帶的局部厚度進行選擇性控制。在一個例子中,所述控制器配置成基于玻璃帶的厚度和從玻璃帶上切下的玻璃板的厚度中的至少一種的測量結果來操控加熱裝置,其中,所測得的厚度主要由玻璃帶的第一主表面和第二主表面之間的玻璃定義。
在第一方面的另一個例子中,加熱裝置包含多個加熱元件,所述加熱元件中的每一個分別與多個離散位置中的一處相對應。在一個例子中,多個加熱元件沿著相對于拉制路徑橫向延伸的加熱路徑設置。
在第一方面的另一個例子中,多個輥包含上游對輥和下游對輥。上游對輥配置成與玻璃帶的上游邊緣部分接觸。下游對輥沿著拉制路徑與上游對輥間隔開,并且配置成與玻璃帶的下游邊緣部分接觸。在一個例子中,多個離散位置中的至少一處至少部分位于上游對輥和下游對輥之間。
在第一方面的另一個例子中,多個離散位置中的至少一處包含在沿著拉制路徑延伸的拉制平面上的約2cm2~約25cm2范圍內的區域。
在第一方面的另一個例子中,加熱裝置的至少一部分距離沿著所述拉制路徑延伸的拉制平面小于0.25英寸。
在第一方面的另一個例子中,加熱裝置包含多條管道,流體配置成經由所述管道進行循環。循環流體配置成傳遞熱量以選擇性地改變玻璃帶的局部溫度。在一個例子中,多條管道設置在殼套中。在另一個例子中,多條管道包含陶瓷,殼套包含碳化硅。
在第一方面的另一個例子中,加熱裝置包含流體噴射,所述流體噴射配置成選擇性地使流體沖擊玻璃帶的多個離散位置中的一處或多處。
在第一方面的另一個例子中,加熱裝置的至少一部分浸沒在浮浴中。在一個例子中,加熱裝置的浸沒部分配置成對浮浴的局部溫度進行選擇性控制。
第一方面可被單獨提供,或者以與上述第一方面的一個例子或例子的任意組合的組合形式被提供。
在本公開的第二方面中,一種玻璃帶的制造方法包括在殼體內的浮浴上拉制玻璃帶。該方法還包括對殼體內的玻璃帶的多個離散位置中的至少一處的局部厚度進行選擇性控制,其中,所述局部厚度主要由玻璃帶的第一主表面和第二主表面之間的玻璃定義。
在第二方面的一個例子中,該方法還包括對多個離散位置中的至少一處的局部溫度進行控制以對玻璃帶的相對應的局部厚度進行控制。在一個例子中,對局部溫度進行控制是基于玻璃帶的厚度和從玻璃帶上切下的玻璃板的厚度中的至少一種的測量結果來進行的,其中,所測得的厚度主要由玻璃帶的第一主表面和第二主表面之間的玻璃定義。
在第二方面的另一個例子中,該方法包括基于玻璃帶的厚度和從所述玻璃帶上切下的玻璃板的厚度中的至少一種的測量結果來選擇多個離散位置中的一處或多處,其中,所述測得的厚度主要由所述玻璃帶的第一主表面和第二主表面之間的玻璃定義。在一個例子中,該方法還包括基于所述測量結果對所選的一處或多處離散位置中的每一處的局部溫度進行控制。
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