[發(fā)明專利]在基板處理腔室中使用的準(zhǔn)直器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580061359.2 | 申請(qǐng)日: | 2015-11-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107002220B | 公開(公告)日: | 2020-04-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬丁·李·瑞克 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 應(yīng)用材料公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;C23C14/35;H01J37/34 |
| 代理公司: | 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國(guó);趙靜 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 腔室中 使用 準(zhǔn)直器 | ||
1.一種用于在基板處理腔室中使用的準(zhǔn)直器,包括:
本體,所述本體具有中央?yún)^(qū)域、周邊區(qū)域以及設(shè)置在所述中央?yún)^(qū)域和所述周邊區(qū)域之間的過渡區(qū)域;
在所述中央?yún)^(qū)域中的多個(gè)第一孔,所述多個(gè)第一孔具有第一深寬比;
在所述周邊區(qū)域中的多個(gè)第二孔,所述多個(gè)第二孔具有第二深寬比,所述第二深寬比小于所述第一深寬比;和
在所述過渡區(qū)域中的多個(gè)第三孔,其中所述多個(gè)第三孔被切割,使所述過渡區(qū)域形成環(huán)繞所述中央?yún)^(qū)域的圓錐形狀,
其中所述過渡區(qū)域在所述中央?yún)^(qū)域中提供圓形輪廓。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)直器,其中所述多個(gè)第一孔、所述多個(gè)第二孔和所述多個(gè)第三孔是粗糙的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)直器,其中所述多個(gè)第三孔以預(yù)定的角度而被切割。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的準(zhǔn)直器,其中所述預(yù)定的角度在15°和45°之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)直器,其中所述多個(gè)第一孔包含61個(gè)孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的準(zhǔn)直器,其中所述多個(gè)第一孔、所述多個(gè)第二孔和所述多個(gè)第三孔的上部分包含一倒角。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的準(zhǔn)直器,其中所述倒角為2.5°至15°。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的準(zhǔn)直器,其中所述倒角具有0.15英寸至1英寸的長(zhǎng)度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的準(zhǔn)直器,其中所述多個(gè)第一孔的深寬比為2.5:1至3.3:1。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的準(zhǔn)直器,其中所述多個(gè)第一孔、所述多個(gè)第二孔和所述多個(gè)第三孔中的每一個(gè)孔是六角形的。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的準(zhǔn)直器,其中圍繞所述多個(gè)第一孔中的每一個(gè)孔的圓圈具有1.5英寸的直徑。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的準(zhǔn)直器,其中所述多個(gè)第一孔、所述多個(gè)第二孔和所述多個(gè)第三孔是粗糙的,且其中所述多個(gè)第三孔以預(yù)定的角度倒角。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的準(zhǔn)直器,其中所述倒角在2.5°15°之間,并且具有0.15英寸至1英寸的長(zhǎng)度。
14.根據(jù)權(quán)利要求12至13任一項(xiàng)所述的準(zhǔn)直器,其中所述多個(gè)第一孔的深寬比為2.5:1至3.3:1。
15.一種基板處理腔室,包括:
腔室本體,所述腔室本體界定內(nèi)部容積;
濺射靶材,所述濺射靶材設(shè)置在所述內(nèi)部容積的上部分中;
基板支撐件,所述基板支撐件設(shè)置在所述濺射靶材的下方;和
準(zhǔn)直器,所述準(zhǔn)直器設(shè)置在所述濺射靶材和所述基板支撐件之間的所述內(nèi)部容積中,其中所述準(zhǔn)直器如前述權(quán)利要求的任一項(xiàng)所描述。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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