[發(fā)明專利]用于選擇性激光燒結(jié)設(shè)備或激光熔融設(shè)備的曝光控制的方法和設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580061317.9
• 申請日: 2015-11-05
• 公開（公告）號: CN107107467B
• 公開（公告）日: 2019-03-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: F·赫爾佐克;F·貝希曼;M·利珀特;J·霍赫
• 申請（專利權(quán)）人: CL產(chǎn)權(quán)管理有限公司
• 主分類號: B29C64/153
• 分類號: B29C64/153;B29C64/393;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/02
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 吳鵬;馬江立

1.一種用于選擇性的激光燒結(jié)設(shè)備或激光熔融設(shè)備的曝光控制的方法，所述設(shè)備用于制造三維物體，所述方法包括以下方法步驟：

-提供選擇性的激光燒結(jié)設(shè)備或激光熔融設(shè)備(1)，在該設(shè)備中能夠通過在與物體的各橫截面相對應(yīng)的位置上連續(xù)固化能夠借助于輻射固化的粉末狀的成型材料(6)的層來制造三維物體，其中，所提供的設(shè)備(1)包括用于對成型材料的層進行照射的照射裝置，該照射裝置具有能夠被分開地驅(qū)控的、同時照射成型材料的多個掃描儀(8a、8b)，

其特征在于以下方法步驟：

-在第一步驟中分開地檢測每個單獨的掃描儀(8a、8b)的照射時間和/或由每個單獨的掃描儀(8a、8b)所覆蓋的照射區(qū)域并且存儲所檢測到的照射時間和/或照射區(qū)域；

-將各個掃描儀(8a、8b)的照射時間和/或照射區(qū)域相互進行比較；

-對成型材料層(11)的要被每個單獨的掃描儀照射的表面區(qū)域進行重新確定，使得每個單獨的掃描儀(8a、8b)的照射時間都盡可能彼此近似和/或每個單獨的掃描儀(8a、8b)的照射區(qū)域就面積而言都在最大可能程度上彼此相等。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，掃描區(qū)(31、32)的劃分在一個或多個成型材料層(11)固化之后分別動態(tài)地調(diào)整，使得在接下來的照射過程中所得到的照射時間對于每個掃描儀(8a、8b)都至少近似相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，在成型過程開始之前，操作人員能夠基于掃描儀(8a、8b)的可讀取的控制數(shù)據(jù)對每個掃描儀的掃描區(qū)(31、32)的尺寸進行預(yù)設(shè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，每個掃描儀(8a、8b)的掃描區(qū)(31、32)在漸進的步驟中彼此適配。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，掃描區(qū)(31、32)之間的界限(30)是直線。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，如果關(guān)于每個掃描儀(8a、8b)的照射時間或照射區(qū)域的比較得出的結(jié)果是不移動掃描區(qū)界限(30)，則使掃描區(qū)(31、32)之間的界限(30)振蕩。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，一個掃描儀(8a、8b)在另一個掃描儀(8a、8b)的掃描區(qū)(31、32)中執(zhí)行對照射區(qū)段的應(yīng)力減小的預(yù)曝光。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，預(yù)曝光的曝光時間對掃描區(qū)界限移動沒有影響。

9.一種用于實施根據(jù)上述權(quán)利要求1至8中任一項所述的方法的設(shè)備，即，用于制造三維物體的激光燒結(jié)設(shè)備或激光熔融設(shè)備(1)，其中，該設(shè)備具有如下部件：

-在設(shè)備(1)的工藝腔(2)中布置有成型缸(3)，該成型缸具有高度可調(diào)的成型平臺(4)；

-在成型平臺(4)上方布置有涂覆單元(5)，通過該涂覆單元能夠?qū)碜杂诙拷o料腔(7)的成型材料(6)在成型缸(3)的區(qū)域中涂覆成薄層的形式；

-在成型缸(3)上方布置有多個掃描儀(8a、8b)，通過這些掃描儀，一個或多個輻射源(10)的輻射(3)能夠以工藝受控的方式轉(zhuǎn)向到成型材料層(11)上，以便選擇性地固化成型材料層，

其特征在于，

設(shè)有電子檢測單元(20)，通過該電子檢測單元分開地檢測關(guān)于每個單獨的掃描儀(8a、8b)的照射時間和/或在照射步驟中由每個單獨的掃描儀(8a、8b)覆蓋的照射區(qū)域，并且存儲在電子存儲器(21)中；

設(shè)有電子比較器(22)，通過該電子比較器能夠?qū)⑺鎯Φ母鱾€掃描儀(8a、8b)的照射時間數(shù)值和/或?qū)⒏鱾€掃描儀(8a、8b)的照射區(qū)域數(shù)值相互比較；

設(shè)有處理器(23)，該處理器與比較器(22)的輸出端連接，并且在各個掃描儀(8a、8b)的照射時間數(shù)值或照射區(qū)域數(shù)值有偏差時，對要被每個單獨的掃描儀(8a、8b)照射的表面區(qū)域進行重新確定，使得每個單獨的掃描儀(8a、8b)的照射時間和/或照射區(qū)域就面積而言在最大可能程度上彼此相等。