[發(fā)明專利]防止偽造用的光學元件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580061085.7
• 申請日: 2015-11-10
• 公開（公告）號: CN107148583B
• 公開（公告）日: 2020-01-24
• 發(fā)明（設計）人: 屋鋪一尋;永野彰;杉原啟太郎;田代智子
• 申請（專利權）人: 凸版印刷株式會社
• 主分類號: G02B5/00
• 分類號: G02B5/00;B42D25/324;G02B5/18;G03H1/02;G07D7/12;G07D7/128;G09F19/12
• 代理公司: 11112 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權代理有限公司
• 代理人: 何立波;張?zhí)焓?/td>

1.一種防止偽造用的光學元件，其特征在于，

在表面具有浮雕構造的第二層的上方配置有第一層，且至少具有第一區(qū)域和第二區(qū)域，并且所述第一層和所述第二層的折射率互不相同，

構成為從所述第一層側(cè)以預先設定的特定角度入射的電磁波，因所述第一區(qū)域的浮雕構造以及所述第二層的折射率相對于所述第一層的折射率的比中的至少一者而進行全反射，

構成為從所述第一層側(cè)以所述特定角度入射的電磁波，因所述第二區(qū)域的浮雕構造以及所述第二層的折射率相對于所述第一層的折射率的比中的至少一者進行透過或折射而不進行全反射，

僅在從所述第一層側(cè)的所述特定角度觀察的情況下，至少與所述第一區(qū)域相比，所述第二區(qū)域的透明性高，通過所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域的透明性的對比度而表現(xiàn)出預先設定的圖像，

與所述第一層相比，所述第二層的折射率低，所述浮雕構造具有相對于光學元件平面傾斜的斜面，

在將光源放置于觀察點側(cè)而從任意的觀察點進行觀察時，

在將向所述第一區(qū)域的所述浮雕構造的斜面的入射角設為θ_f1、

將向所述第二區(qū)域的所述浮雕構造的斜面的入射角設為θ_f2、

將所述第一區(qū)域中的所述第一層的折射率設為N₁、將所述第一區(qū)域中的所述第二層的折射率設為N₂、

將所述第二區(qū)域中的所述第一層的折射率設為N₃、且將所述第二區(qū)域中的所述第二層的折射率設為N₄的情況下，滿足式1以及式2，

θ_f1≥arcsin(N₂/N₁)···(式1)

arcsin(N₄/N₃)>θ_f2···(式2)。

2.根據(jù)權利要求1所述的防止偽造用的光學元件，其特征在于，

具有配置為與所述第二層接觸的第三層，該第三層是記載有記號以及圖像圖案中的至少一者的打印層。

3.根據(jù)權利要求1所述的防止偽造用的光學元件，其特征在于，

具有配置為與所述第二層接觸的第四層，該第四層是著色層。

4.根據(jù)權利要求3所述的防止偽造用的光學元件，其特征在于，

具有配置為與所述第四層的所述第二層相反側(cè)的面接觸的第五層，該第五層是電磁波吸收層。

5.根據(jù)權利要求1所述的防止偽造用的光學元件，其特征在于，

具有配置為與所述第一層接觸的第六層以及配置為與所述第二層接觸的第七層，所述第六層是著色層，所述第七層是電磁波吸收層。

6.根據(jù)權利要求1所述的防止偽造用的光學元件，其特征在于，

所述浮雕構造的至少一部分具有周期性構造，具有能產(chǎn)生該周期性構造以及莫爾條紋的第八層。

7.根據(jù)權利要求1所述的防止偽造用的光學元件，其特征在于，

在從相對于光學元件平面垂直的方向觀察所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域的至少一個區(qū)域的情況下，通過由雙眼和光學元件的位置所規(guī)定的輻輳角而產(chǎn)生視差圖像。

8.一種防止偽造用的光學元件，其特征在于，

其是將權利要求1所述的防止偽造用的光學元件層疊大于或等于2層的結構。

9.根據(jù)權利要求8所述的防止偽造用的光學元件，其特征在于，

層疊的光學元件的至少2個層具有周期性浮雕構造，2個周期性浮雕構造產(chǎn)生莫爾條紋。