[發(fā)明專利]源-檢測器布置結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580060997.2 | 申請日: | 2015-11-10 |
| 公開(公告)號: | CN106999125B | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | T·克勒;E·勒斯?fàn)?/a>;R·K·O·貝林;P·B·T·諾埃爾;F·普法伊費(fèi)爾 | 申請(專利權(quán))人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00;A61B6/03 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 蔡洪貴 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢測器 布置 結(jié)構(gòu) | ||
1.用于光柵型相位襯度計(jì)算機(jī)斷層掃描的X射線設(shè)備(10)的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11),所述源-檢測器布置結(jié)構(gòu)包括:
X射線源(12),所述X射線源適于相對于對象(140)圍繞旋轉(zhuǎn)軸線(R)旋轉(zhuǎn)移動(dòng)并且適于發(fā)射呈線條圖案(21)的相干或準(zhǔn)相干輻射的X射線束;以及
X射線檢測系統(tǒng)(16),所述X射線檢測系統(tǒng)包括第一光柵元件(24)和第二光柵元件(26)以及檢測器元件(6);其中所述輻射的所述線條圖案和所述光柵元件的光柵方向被布置成正交于所述旋轉(zhuǎn)軸線;并且所述第一光柵元件具有依賴于所述X射線束的錐角(β)而變化的第一光柵節(jié)距和/或所述第二光柵元件具有依賴于所述X射線束的所述錐角而變化的第二光柵節(jié)距。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11),其中,所述X射線源包括具有被布置成正交于所述旋轉(zhuǎn)軸線的光柵方向的源光柵元件(22)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11),其中,所述X射線源(12)包括用來發(fā)射呈線條圖案(21)的所述相干或準(zhǔn)相干輻射的陽極(120),所述陽極包括不同輻射發(fā)射的條帶(121),所述條帶被布置成平行于所述第一光柵元件(24)的光柵線條和/或所述第二光柵元件(26)的光柵線條。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11),其中,所述第一光柵節(jié)距和/或所述第二光柵節(jié)距沿所述X射線束的所述錐角(β)均勻地和/或逐漸地變化。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11),其中,所述第一光柵節(jié)距和/或所述第二光柵節(jié)距沿所述X射線束的所述錐角(β)從較小的光柵節(jié)距變化至較大的光柵節(jié)距。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11),其中,所述第一光柵元件(24)和/或所述第二光柵元件(26)適于能夠相對于彼此移動(dòng)以提供相位步進(jìn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11),其中,所述X射線源(12)包括旋轉(zhuǎn)陽極(120)和位置傳感器(40)以及束偏轉(zhuǎn)單元(51),所述位置傳感器用于檢測所述旋轉(zhuǎn)陽極的靶區(qū)域上的電子束(50)的焦斑(123)的實(shí)際位置相對于預(yù)期位置的復(fù)現(xiàn)偏差,所述束偏轉(zhuǎn)單元具有用于基于從所述位置傳感器獲得的測量結(jié)果來使所述束偏轉(zhuǎn)的集成控制器。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11),其中,所述X射線源(12)包括結(jié)構(gòu)化電子束(52),所述結(jié)構(gòu)化電子束指向陽極以便發(fā)射呈線條圖案的所述相干或準(zhǔn)相干X射線束。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11),其中,所述結(jié)構(gòu)化電子束(52)適于能夠以電磁方式移動(dòng)以提供相位步進(jìn)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11),其中,所述X射線源(12)包括多個(gè)液態(tài)金屬射流(124),所述多個(gè)液態(tài)金屬射流提供多個(gè)焦線(125)。
11.用于光柵型相位襯度計(jì)算機(jī)斷層掃描的X射線設(shè)備(10),所述X射線設(shè)備包括根據(jù)權(quán)利要求1所述的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11)。
12.用于使用用于光柵型相位襯度計(jì)算機(jī)斷層掃描的X射線設(shè)備(10)的源-檢測器布置結(jié)構(gòu)(11)生成并且檢測X射線束的方法,所述方法包括:
使發(fā)射相干或準(zhǔn)相干輻射的X射線源(12)相對于對象(140)圍繞旋轉(zhuǎn)軸線(R)旋轉(zhuǎn);
通過X射線檢測系統(tǒng)(16)檢測所述輻射,所述X射線檢測系統(tǒng)包括第一光柵元件和第二光柵元件以及檢測器元件;其中所述輻射的線條圖案和所述光柵元件的光柵方向被布置成正交于所述旋轉(zhuǎn)軸線;并且所述第一光柵元件具有依賴于所述X射線束的錐角(β)而變化的第一光柵節(jié)距和/或所述第二光柵元件具有依賴于所述X射線束的所述錐角而變化的第二光柵節(jié)距。
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