[發(fā)明專(zhuān)利]電壓補(bǔ)償?shù)拈_(kāi)關(guān)堆疊有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580060317.7 | 申請(qǐng)日: | 2015-09-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107078737B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-01-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | H.富;A.馬登;G.A.布林;F.阿爾圖恩基利克 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 天工方案公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H03K17/693 | 分類(lèi)號(hào): | H03K17/693;H01L23/64;H04W88/02;H01L27/06 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 于小寧 |
| 地址: | 美國(guó)馬*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電壓 補(bǔ)償 開(kāi)關(guān) 堆疊 | ||
1.一種射頻開(kāi)關(guān)裝置,包括:
地平面;
與所述地平面相關(guān)地布置的堆疊,所述堆疊包含多個(gè)彼此串聯(lián)耦合的開(kāi)關(guān)元件;以及
多個(gè)電容元件,每個(gè)電容元件具有相應(yīng)的電容值并且每個(gè)相應(yīng)的電容元件提供跨相應(yīng)的開(kāi)關(guān)元件的相應(yīng)端子的相應(yīng)的電容路徑,并且所述多個(gè)電容元件的每個(gè)相應(yīng)的電容值跨所述堆疊單調(diào)增加或者減少。
2.如權(quán)利要求1所述的射頻開(kāi)關(guān)裝置,其中,所述多個(gè)開(kāi)關(guān)元件包含場(chǎng)效應(yīng)晶體管,其中,至少一些所述場(chǎng)效應(yīng)晶體管的每一個(gè)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的源極與一個(gè)或者多個(gè)相鄰的場(chǎng)效應(yīng)晶體管的漏極耦合。
3.如權(quán)利要求1所述的射頻開(kāi)關(guān)裝置,其中,所述多個(gè)開(kāi)關(guān)元件包含場(chǎng)效應(yīng)晶體管、雙極結(jié)型晶體管、GaAs晶體管、二極管以及微機(jī)電器件中的至少一個(gè)。
4.如權(quán)利要求1所述的射頻開(kāi)關(guān)裝置,其中,所述地平面包括至少部分半導(dǎo)體基底。
5.如權(quán)利要求1所述的射頻開(kāi)關(guān)裝置,其中,所述多個(gè)電容元件中的至少一些利用半導(dǎo)體制造工藝中可用的附加的通孔和金屬來(lái)形成。
6.如權(quán)利要求1所述的射頻開(kāi)關(guān)裝置,其中,所述多個(gè)電容元件中的至少一些中的每一個(gè)電容元件在對(duì)應(yīng)的被用作開(kāi)關(guān)元件的場(chǎng)效應(yīng)晶體管的漏極與源極之間提供相應(yīng)的側(cè)向電容。
7.一種射頻開(kāi)關(guān)模塊,包括:
封裝基底,被配置為容納多個(gè)組件;
地平面,被布置在所述封裝基底的第一側(cè)上;
與地平面相關(guān)地布置在所述封裝基底的第二側(cè)上的堆疊,所述堆疊包含多個(gè)彼此串聯(lián)耦合的開(kāi)關(guān)元件;以及
多個(gè)電容元件,每個(gè)電容元件具有相應(yīng)的電容值并且每個(gè)相應(yīng)的電容元件提供跨相應(yīng)的開(kāi)關(guān)元件的相應(yīng)端子的相應(yīng)的電容路徑,并且所述多個(gè)電容元件的每個(gè)相應(yīng)的電容值跨所述堆疊單調(diào)增加或者減少。
8.如權(quán)利要求7所述的射頻開(kāi)關(guān)模塊,其中,所述多個(gè)開(kāi)關(guān)元件包含場(chǎng)效應(yīng)晶體管、雙極結(jié)型晶體管、GaAs晶體管、二極管以及微機(jī)電器件中的至少一個(gè)。
9.如權(quán)利要求7所述的射頻開(kāi)關(guān)模塊,其中,所述地平面包括至少部分半導(dǎo)體基底。
10.如權(quán)利要求7所述的射頻開(kāi)關(guān)模塊,其中,所述多個(gè)電容元件中的至少一些利用半導(dǎo)體制造工藝中可用的附加的通孔和金屬來(lái)形成。
11.如權(quán)利要求7所述的射頻開(kāi)關(guān)模塊,其中,所述多個(gè)電容元件中的至少一些中的每一個(gè)電容元件在對(duì)應(yīng)的被用作開(kāi)關(guān)元件的場(chǎng)效應(yīng)晶體管的漏極與源極之間提供相應(yīng)的側(cè)向電容。
12.一種射頻設(shè)備,包括:
地平面;
與所述地平面相關(guān)地布置的堆疊,所述堆疊包含多個(gè)彼此串聯(lián)耦合的開(kāi)關(guān)元件;
多個(gè)電容元件,每個(gè)電容元件具有相應(yīng)的電容值并且每個(gè)相應(yīng)的電容元件提供跨相應(yīng)的開(kāi)關(guān)元件的相應(yīng)端子的相應(yīng)的電容路徑,并且所述多個(gè)電容元件的每個(gè)相應(yīng)的電容值跨所述堆疊單調(diào)增加或者減少;以及
通過(guò)所述堆疊耦合至收發(fā)器的天線,所述天線被配置為便于射頻信號(hào)的發(fā)送或接收。
13.如權(quán)利要求12所述的射頻設(shè)備,其中,所述射頻設(shè)備包含無(wú)線設(shè)備。
14.如權(quán)利要求13所述的射頻設(shè)備,其中,所述無(wú)線設(shè)備包含基站、中繼器、蜂窩電話、智能電話、計(jì)算機(jī)和計(jì)算機(jī)外圍設(shè)備中的至少一個(gè)。
15.如權(quán)利要求12所述的射頻設(shè)備,其中,所述地平面包括至少部分半導(dǎo)體基底。
16.如權(quán)利要求12所述的射頻設(shè)備,其中,所述多個(gè)電容元件中的至少一些利用半導(dǎo)體制造工藝中可用的附加的通孔和金屬來(lái)形成。
17.如權(quán)利要求12所述的射頻設(shè)備,其中,所述多個(gè)電容元件中的至少一些中的每一個(gè)電容元件在對(duì)應(yīng)的被用作開(kāi)關(guān)元件的場(chǎng)效應(yīng)晶體管的漏極與源極之間提供相應(yīng)的側(cè)向電容。
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- 開(kāi)關(guān)(智慧開(kāi)關(guān))
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