[發明專利]用于以數字匹配濾波器進行增強型缺陷檢測的系統及方法

有效

• 申請號: 201580059583.8
• 申請日: 2015-11-11
• 公開（公告）號: CN107077733B
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: P·科爾欽;E·希夫林
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T5/20
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 張世俊

1.一種用于利用匹配濾波器的增強型缺陷檢測的方法，所述方法包括：

針對第一光學模式從樣本的兩個或多于兩個位置獲取來自所述樣本的兩個或多于兩個檢驗圖像；

基于針對所述第一光學模式來自所述兩個或多于兩個位置的所述兩個或多于兩個檢驗圖像，針對選定缺陷類型而產生經聚合缺陷分布；

計算針對所述第一光學模式從所述兩個或多于兩個位置獲取的所述兩個或多于兩個檢驗圖像的一或多個噪聲相關性特性；及

基于所述所產生的經聚合缺陷分布及所述所計算的一或多個噪聲相關性特性而產生用于所述第一光學模式的匹配濾波器。

2.根據權利要求1所述的方法，其進一步包括：

將所述所產生的匹配濾波器應用于針對所述第一光學模式所獲取的檢驗圖像以形成第一經濾波圖像。

3.根據權利要求2所述的方法，其中所述將所述所產生的匹配濾波器應用于針對所述第一光學模式所獲取的檢驗圖像包括：

將所述所產生的匹配濾波器與針對所述第一光學模式所獲取的檢驗圖像進行卷積。

4.根據權利要求2所述的方法，其進一步包括：

針對額外光學模式從所述樣本的兩個或多于兩個位置獲取來自所述樣本的兩個或多于兩個檢驗圖像；

基于針對所述額外光學模式來自所述兩個或多于兩個位置的所述兩個或多于兩個檢驗圖像，針對選定缺陷類型而產生額外經聚合缺陷分布；

計算針對所述額外光學模式從所述兩個或多于兩個位置獲取的所述兩個或多于兩個檢驗圖像的一或多個額外噪聲相關性特性；

基于所述所產生的額外經聚合缺陷分布及所述所計算的一或多個額外噪聲相關性特性而產生用于所述額外光學模式的額外匹配濾波器；及

將所述所產生的額外匹配濾波器應用于針對所述額外光學模式的所述兩個或多于兩個所獲取的檢驗圖像中的至少一者以形成額外經濾波圖像。

5.根據權利要求4所述的方法，其進一步包括：

將所述第一經濾波圖像與所述額外經濾波圖像進行比較以將所述第一光學模式與所述額外光學模式排名。

6.根據權利要求1所述的方法，其中所述基于針對所述第一光學模式來自所述兩個或多于兩個位置的所述兩個或多于兩個檢驗圖像以針對選定缺陷類型而產生經聚合缺陷分布包括：

基于針對所述第一光學模式來自所述兩個或多于兩個位置的所述兩個或多于兩個檢驗圖像，針對選定缺陷類型而產生經平均缺陷分布。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述計算針對所述第一光學模式從所述兩個或多于兩個位置獲取的所述兩個或多于兩個檢驗圖像的一或多個噪聲相關性特性包括：

計算針對所述第一光學模式從所述兩個或多于兩個位置獲取的所述兩個或多于兩個檢驗圖像的一或多個噪聲相關性矩陣。

8.根據權利要求1所述的方法，其中所述針對第一光學模式從樣本的兩個或多于兩個位置獲取來自所述樣本的兩個或多于兩個檢驗圖像包括：

經由暗場檢驗過程針對第一光學模式從樣本的兩個或多于兩個位置獲取來自所述樣本的兩個或多于兩個檢驗圖像。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述針對第一光學模式從樣本的兩個或多于兩個位置獲取來自所述樣本的兩個或多于兩個檢驗圖像包括：

經由明場檢驗過程針對第一光學模式從樣本的兩個或多于兩個位置獲取來自所述樣本的兩個或多于兩個檢驗圖像。