[發明專利]顯影輥、處理卡盒、成像設備和成像方法

有效

• 申請號: 201580059403.6
• 申請日: 2015-09-30
• 公開（公告）號: CN107077087B
• 公開（公告）日: 2020-02-28
• 發明（設計）人: 安永英明;重里圭一郎
• 申請（專利權）人: 株式會社理光
• 主分類號: G03G15/08
• 分類號: G03G15/08;C08G18/62;F16C13/00
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 王永偉;趙蓉民

1.顯影輥，其包括：

軸體；

在所述軸體的外周上形成的彈性層；和

在所述彈性層的外周上形成的表面層，

其中所述表面層包含含有氟乙烯乙烯基醚共聚物和異氰酸酯的異氰脲酸酯形式的反應產物的聚氨酯，所述聚氨酯的膜厚度為0.5μm至2.0μm，

其中所述顯影輥在所述顯影輥的表面中包含槽，所述槽與圓周方向的角度為0度至30度，并且

其中所述槽的寬度為10μm至20μm。

2.根據權利要求1所述的顯影輥，其中所述槽的長度為20μm至100μm。

3.根據權利要求1至2中任一項所述的顯影輥，其中所述槽的深度為5μm至15μm。

4.根據權利要求1至2中任一項所述的顯影輥，其中每1mm²形成的所述槽的數目為600至1,100。

5.根據權利要求1至2中任一項所述的顯影輥，其中所述異氰酸酯的異氰脲酸酯形式包含六亞甲基二異氰酸酯的異氰脲酸酯形式。

6.根據權利要求1至2中任一項所述的顯影輥，其中所述表面層包含無機顆粒。

7.根據權利要求6所述的顯影輥，其中所述無機顆粒包括平均初級粒徑為5nm至30nm的疏水化二氧化硅。

8.根據權利要求6所述的顯影輥，其中所述無機顆粒的含量為所述表面層的總量的按質量計0.5％至按質量計3.0％。

9.處理卡盒，其包括根據權利要求1至8中任一項所述的顯影輥。

10.成像設備，其包括：

圖像載體；

充電單元，其被配置以使所述圖像載體表面充電；

潛像形成單元，其被配置以在所述圖像載體上形成靜電潛像；

顯影單元，其被配置以將顯影劑附著至所述靜電潛像以形成可視圖像；

轉印單元，其被配置以將所述可視圖像轉印至記錄介質上；和

清潔單元，其被配置以移除附著于所述圖像載體的所述表面上的所述顯影劑，

其中所述顯影單元包括根據權利要求1至8中任一項所述的顯影輥。

11.成像方法，其包括：

通過充電單元使圖像載體表面充電；

在所述圖像載體上形成靜電潛像；

將顯影劑附著至所述靜電潛像以形成可視圖像；

將所述可視圖像轉印至記錄介質上；和

移除附著于所述圖像載體的所述表面上的所述顯影劑，

其中在附著所述顯影劑中，通過根據權利要求1至8中任一項所述的顯影輥將所述顯影劑附著至所述靜電潛像以形成所述可視圖像。