[發明專利]對計量目標成像的質量估計及改進有效
| 申請號: | 201580057887.0 | 申請日: | 2015-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN107111870B | 公開(公告)日: | 2021-08-06 |
| 發明(設計)人: | B·埃弗拉蒂;Y·帕斯卡維爾 | 申請(專利權)人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 張世俊 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 計量 目標 成像 質量 估計 改進 | ||
1.一種估計包括至少一個周期性結構的計量目標的質量的方法,其包括:
采集所述計量目標的所述至少一個周期性結構的一或多個光學圖像;
使用處理器針對所述至少一個周期性結構的周期性對經測量的核心應用第一傅里葉濾波器;
使用所述處理器針對所述至少一個周期性結構的垂直片段的周期性對所述經測量的核心垂直地應用第二傅里葉濾波器;
使用所述處理器來基于所述第一傅里葉濾波器和所述第二傅里葉濾波器的應用而確定至少一個所關注的核心的區域的噪聲度量;
使用所述處理器來從一維噪聲估計和二維噪聲估計之間的差導出一或多個額外目標特性,其中:
所述一維噪聲估計是通過所述第一傅里葉濾波器或所述第二傅里葉濾波器中的一者的應用導出;且
所述二維噪聲估計是通過所述第一傅里葉濾波器和所述第二傅里葉濾波器兩者的應用導出;以及
基于所述差調整一或多個過程控制條件。
2.根據權利要求1所述的方法,其進一步包括:
使用所述處理器來導出殘留噪聲的一或多個統計特性;和
使用所述處理器來利用所述一或多個統計特性分析一或多個目標不準確性的源。
3.根據權利要求1所述的方法,其中所述計量目標包括:
高級成像計量AIM目標。
4.根據權利要求1所述的方法,其中所述計量目標包括:
盒中盒目標。
5.一種用于估計包括至少一個周期性結構的計量目標的質量的系統,其包括:
體現計算機可讀程序的非暫時性計算機存儲媒體;和
處理器,其經配置以讀取所述計算機可讀程序以:
采集所述計量目標的所述至少一個周期性結構的一或多個光學圖像;
針對所述至少一個周期性結構的周期性對經測量的核心應用第一傅里葉濾波器;
針對所述至少一個周期性結構的垂直片段的周期性對所述經測量的核心垂直地應用第二傅里葉濾波器;
基于所述第一傅里葉濾波器和所述第二傅里葉濾波器的應用而確定至少一個所關注的核心的區域的噪聲度量;
從一維噪聲估計和二維噪聲估計之間的差導出一或多個額外目標特性,其中:
所述一維噪聲估計是通過所述第一傅里葉濾波器或第二傅里葉濾波器中的一者的應用導出;且
所述二維噪聲估計是通過所述第一傅里葉濾波器和第二傅里葉濾波器兩者的應用導出;以及
基于所述差調整一或多個過程控制條件。
6.根據權利要求5所述的系統,其中所述處理器經配置以讀取所述計算機可讀程序以:導出殘余噪聲的一或多個統計特性;和,
利用所述一或多個統計特性來分析一或多個目標不準確性的源。
7.根據權利要求5所述的系統,其中所述計量目標包括:
高級成像計量AIM目標。
8.根據權利要求5所述的系統,其中所述計量目標包括:
盒中盒目標。
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