[發明專利]有機材料膜或有機無機復合材料膜的激光蒸鍍方法、激光蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201580057831.5
• 申請日: 2015-08-21
• 公開（公告）號: CN107109628B
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 宮寺哲彥;杉田武;村上拓郎;近松真之;松原浩司
• 申請（專利權）人: 國立研究開發法人產業技術綜合研究所
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28;C23C14/12
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 楊海榮;穆德駿

1.一種激光蒸鍍方法，其是對基板激光蒸鍍至少一種有機材料的方法，其特征在于，對使該有機材料蒸發的激光的占空比進行調節，其中

基于所述有機材料的蒸發速度或者基于蒸鍍用真空腔內的蒸氣壓，對所述占空比進行調節。

2.如權利要求1所述的激光蒸鍍方法，其中，利用占空比調節后的激光使有機材料蒸發，并且利用激光使無機材料蒸發，共蒸鍍有機無機復合物。

3.如權利要求2所述的激光蒸鍍方法，其中，使用有機陽離子的鹵化物作為所述有機材料，使用MX₂作為所述無機材料，共蒸鍍有機無機復合鈣鈦礦，

式中M為二價的金屬離子，X為選自由F、Cl、Br、I組成的組中的至少一種鹵素。

4.一種激光蒸鍍裝置，其是激光蒸鍍至少一種有機材料時所使用的激光蒸鍍裝置，該激光蒸鍍裝置具備該有機材料的蒸發速度測定單元和基于利用該蒸發速度測定單元測定的蒸發速度對使所述有機材料蒸發的激光的占空比進行調節的占空比調節單元。

5.一種激光蒸鍍裝置，其是激光蒸鍍至少一種有機材料時所使用的激光蒸鍍裝置，該激光蒸鍍裝置具備對蒸鍍用真空腔內的蒸氣壓進行測定的蒸氣壓測定單元和基于利用該蒸氣壓測定單元測定的蒸氣壓對使所述有機材料蒸發的激光的占空比進行調節的占空比調節單元。

6.一種激光蒸鍍方法，其是在基板上形成有機無機復合鈣鈦礦的膜的激光蒸鍍方法，

所述方法具有如下步驟：對有機材料照射激光從而使所述有機材料蒸發，并且對無機材料照射激光從而使所述無機材料蒸發，將所述有機材料與所述無機材料在所述基板上共蒸鍍，從而形成所述有機無機復合鈣鈦礦的膜，

所述有機材料是有機陽離子的鹵化物，

所述無機材料是MX₂，式中M為二價的金屬離子，X為選自由F、Cl、Br、I組成的組中的至少一種鹵素，其中

對所述有機材料照射的激光是可調節激光脈沖的脈沖寬度及振幅的脈沖狀的激光，

對所述無機材料照射的激光設為可調節功率的連續激光或者可調節占空比的脈沖狀的激光中的任一種。

7.如權利要求6所述的激光蒸鍍方法，其中

對所述有機材料照射的激光是可調節占空比的脈沖狀的激光，

對所述有機材料照射的激光的所述占空比是基于所述有機材料的蒸發速度調節的。

8.如權利要求6所述的激光蒸鍍方法，其中

所述基板、所述有機材料和所述無機材料設置于所述真空腔內，

對所述有機材料照射的激光是可調節占空比的脈沖狀的激光，

對所述有機材料照射的激光的所述占空比是基于所述真空腔內的蒸氣壓而調節的。

9.如權利要求6所述的激光蒸鍍方法，其中

所述基板、所述有機材料和所述無機材料設置于所述真空腔內，

在將所述有機材料與所述無機材料共蒸鍍于所述基板時，在真空度維持在等于或略高于10^-3Pa的狀態下進行共蒸鍍。

10.如權利要求6所述的激光蒸鍍方法，其中

所述有機無機復合鈣鈦礦由式(1)或式(2)表示：

AMX₃ (1)

B₂MX₄ (2)

式中A、B為有機陽離子，M為2價的金屬離子，X為鹵素。

11.如權利要求10所述的激光蒸鍍方法，其中

所述A為CH₃NH₃⁺，

所述B為R¹NH₃⁺，式中R¹是碳原子數為2以上的烷基、烯基、芳烷基或芳基，

所述M為Pb、Sn或Ge中的任一種。