[發(fā)明專利]用于多種模式射線成像的組織標記物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580057297.8
• 申請日: 2015-08-20
• 公開（公告）號: CN107205792B
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 帕特里克·J·博蘭;馬克·C·格羅斯;丹尼爾·A·哈爾彭;邁克爾·T·尼爾森
• 申請（專利權(quán)）人: 乳腺醫(yī)學公司
• 主分類號: A61B90/00
• 分類號: A61B90/00
• 代理公司: 中國商標專利事務(wù)所有限公司 11234
• 代理人: 張碩;趙婷

1.一種射線成像標記物，包括：

容器壁，用于封閉內(nèi)部腔室并包括可滲透部；和

感測介質(zhì)，其得以容納于所述內(nèi)部腔室內(nèi)，所述感測介質(zhì)最初包括第一液體、氣體部分和固體部分中的至少一個；

其中，所述可滲透部允許第二液體穿過所述容器壁發(fā)生轉(zhuǎn)移，以改變所述內(nèi)部腔室的所述感測介質(zhì)的氣體與液體的比率以及固體與液體的比率中的至少一個。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，其中所述感測介質(zhì)最初地包括氣體部分，所述感測介質(zhì)的氣體部分在所述內(nèi)部腔室內(nèi)產(chǎn)生至少一個氣泡，以在第一成像模式中產(chǎn)生可檢測到的信號強度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的射線成像標記物，其中所述第一成像模式包括超聲成像。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項權(quán)利要求所述的射線成像標記物，其中所述第二液體穿過所述容器壁的轉(zhuǎn)移在第二成像模式中產(chǎn)生可檢測到的信號強度。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的射線成像標記物，其中所述第二成像模式包括磁共振成像。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，其中所述感測介質(zhì)還包括滲透劑，以產(chǎn)生滲透梯度，從而經(jīng)由所述容器壁的所述可滲透部將所述第二液體吸入到所述內(nèi)部腔室內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，所述感測介質(zhì)包括至少一種造影劑。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的射線成像標記物，其中所述感測介質(zhì)最初地包括氣體部分，當所述第二液體和所述氣體部分經(jīng)由所述容器壁交換時，所述容器壁的可滲透部是半滲透性的，以將所述造影劑保持在所述內(nèi)部腔室中。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，其中所述氣體部分分散在所述第一液體內(nèi)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，其中所述感測介質(zhì)包括固體和凝膠中的至少一種。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，還進一步地包括定位在所述內(nèi)部腔室內(nèi)的至少一個物體；

其中所述物體包括在成像模式下可識別的人造形狀。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的射線成像標記物，其中所述至少一個物體用于發(fā)射電磁信號。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，其中所述可滲透部是半滲透性材料。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，其中所述容器壁包括不可滲透部，該不可滲透部包括不可滲透材料。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的射線成像標記物，其中所述不可滲透材料選自玻璃、陶瓷、聚合物、金屬和復(fù)合材料中的至少一種。

16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，其中所述容器壁包括用于封閉所述內(nèi)部腔室的密封件。

17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，其中所述射線成像標記物包括容納在所述內(nèi)部腔室內(nèi)的至少一種治療劑；

其中所述治療劑經(jīng)由所述容器壁的可滲透部流出。

18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，其中所述射線成像標記物的尺寸和形狀適于裝配在套管的腔內(nèi)，此插管被配置為將所述射線成像標記物輸送到對象內(nèi)的完全植入位置。

19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線成像標記物，其中所述感測介質(zhì)包括至少一種造影劑，并且所述造影劑對所述射線成像標記物周圍的組織中的至少一種分析物敏感；

其中所述分析物經(jīng)由所述容器壁的可滲透部滲透。