[發明專利]銅、鉬金屬層疊膜蝕刻液組合物、使用該組合物的蝕刻方法及延長該組合物的壽命的方法

有效

• 申請號: 201580056861.4
• 申請日: 2015-11-17
• 公開（公告）號: CN107075693B
• 公開（公告）日: 2019-07-12
• 發明（設計）人: 高橋秀樹;廖本男;李盈壕
• 申請（專利權）人: 關東化學株式會社
• 主分類號: C23F1/18
• 分類號: C23F1/18;C23F1/26;C23F1/46
• 代理公司: 上海一平知識產權代理有限公司 31266
• 代理人: 崔佳佳;馬莉華

1.一種蝕刻液組合物，它是用于對包括由銅或以銅為主要成分的合金形成的層和由鉬或以鉬為主要成分的合金形成的層的金屬層疊膜進行一次性蝕刻的蝕刻液組合物，其中，含有過氧化氫、有機酸、胺化合物、唑類、過氧化氫穩定劑，但不含無機酸，各成分的摻入量為過氧化物5～20質量％、有機酸0.5～20質量％、胺化合物5～20質量％、唑類0.005～0.2質量％和過氧化氫穩定劑0.05～0.5質量％。

2.如權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，還包含選自膦酸類螯合劑、醇類溶劑、二醇類溶劑、三醇類溶劑、酮類溶劑、含氮五元環類溶劑和亞砜類溶劑的至少1種。

3.如權利要求1或2所述的蝕刻液組合物，其中，有機酸為選自丙氨酸、谷氨酸、甘氨酸、乙醇酸、琥珀酸、胱氨酸、天門冬氨酸、蘋果酸、丙二酸、乳酸、乙酸的1種或2種以上。

4.如權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，胺化合物為選自2-氨基-2-甲基-1-丙醇、1-氨基-2-丙醇、2-氨基乙醇、四甲基氫氧化銨的1種或2種以上。

5.如權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，唑類為選自1,2,4-1H-三唑、3-氨基-1H-1,2,4-三唑和5-氨基-1H-四唑的1種或2種以上。

6.如權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，過氧化氫穩定劑為苯基脲。

7.如權利要求2所述的蝕刻液組合物，其中，膦酸類螯合劑為1-羥基乙烷-1,1-二膦酸。

8.如權利要求2所述的蝕刻液組合物，其中，二醇類溶劑為二丙二醇。

9.一種對包括由銅或以銅為主要成分的合金形成的層和由鉬或以鉬為主要成分的合金形成的層的金屬層疊膜進行一次性蝕刻的方法，其中，包括使用含有過氧化氫、有機酸、胺化合物、唑類、過氧化氫穩定劑但不含無機酸，各成分的摻入量為過氧化物5～20質量％、有機酸0.5～20質量％、胺化合物5～20質量％、唑類0.005～0.2質量％和過氧化氫穩定劑0.05～0.5質量％的蝕刻液組合物進行蝕刻的工序。

10.如權利要求9所述的方法，其中，包括向已用于蝕刻過的蝕刻液組合物中添加有機酸以及選自膦酸類螯合劑、醇類溶劑、二醇類溶劑、三醇類溶劑、酮類溶劑、含氮五元環類溶劑和亞砜類溶劑的至少1種的工序。

11.如權利要求9或10所述的方法，其中，被用于液晶顯示器、彩膜、觸控面板、有機EL顯示器、電子紙、MEMS、IC中的任一種的制造工序或者封裝工序。

12.一種延長含有過氧化氫、有機酸、胺化合物、唑類、過氧化氫穩定劑但不含無機酸的蝕刻液組合物的壽命的方法，其中，包括向所述蝕刻液組合物中添加有機酸以及選自膦酸類螯合劑、醇類溶劑、二醇類溶劑、三醇類溶劑、酮類溶劑、含氮五元環類溶劑和亞砜類溶劑的至少1種的工序。