[發明專利]基于自動化決策的能量分散式X射線方法及設備在審
| 申請號: | 201580055501.2 | 申請日: | 2015-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN106796188A | 公開(公告)日: | 2017-05-31 |
| 發明(設計)人: | H·辛哈;D·斯皮瓦克;H·旭;H·蕭;R·博特羅 | 申請(專利權)人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N23/225 | 分類號: | G01N23/225 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司11287 | 代理人: | 張世俊 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 自動化 決策 能量 分散 射線 方法 設備 | ||
1.一種用于對在目標襯底上的有缺陷裸片中檢測到的缺陷進行自動化復檢的方法,所述方法包括:
獲得包含所述缺陷的位置的結果文件;
使用次級電子顯微鏡SEM執行所述缺陷的自動化復檢以便獲得所述缺陷的電子束圖像;
執行基于如根據所述電子束圖像確定的所述缺陷的形態而將所述缺陷自動化分類成若干類型;
選擇特定類型的缺陷以用于自動化能量分散式x射線EDX復檢;及
對所述特定類型的所述缺陷執行所述自動化EDX復檢。
2.根據權利要求1所述的方法,其中執行所述自動化EDX復檢包括,針對所述特定類型的每一缺陷:
移動到缺陷位點;
從所述缺陷位點獲得EDX光譜;
從所述缺陷位點移動到參考位點;
從所述參考位點獲得所述EDX光譜;及
從來自所述缺陷位點的所述EDX光譜及來自所述參考位點的所述EDX光譜產生差光譜。
3.根據權利要求2所述的方法,其中所述缺陷位點被指示為處于重復單元陣列中,且其中通過以下方式執行從所述缺陷位點到所述參考位點的所述移動:使初級電子束沿一個方向偏轉單元尺寸,使得所述參考位點處于鄰近單元中對應于所述缺陷位點的位置。
4.根據權利要求2所述的方法,其中所述缺陷位點被指示為處于非陣列經圖案化結構中,所述方法進一步包括:
進行電子束成像以獲得圍繞所述有缺陷裸片上的所述缺陷位點的區域的第一圖像;
進行電子束成像以獲得圍繞鄰近裸片上的所述參考位點的區域的第二圖像;及
在將所述第二圖像對準到所述第一圖像之后,確定所述第二圖像中的所述參考位點的位置。
5.根據權利要求4所述的方法,其中通過以下方式執行從所述缺陷位點到所述參考位點的所述移動:使固持所述目標襯底的載臺平移以便使所述SEM的視場從所述有缺陷裸片上的所述缺陷位點移動到所述鄰近裸片上的所述參考位點。
6.根據權利要求2所述的方法,其進一步包括:
針對所述特定類型的每一缺陷從所述差光譜導出元素信息。
7.根據權利要求6所述的方法,其進一步包括:
產生組合形態信息與元素信息的缺陷帕累托。
8.根據權利要求7所述的方法,其中產生所述缺陷帕累托包括:
取決于元素信息基于所述缺陷的所述形態而將所述特定類型的缺陷劃分成多個類型。
9.根據權利要求8所述的方法,其中所述缺陷帕累托包括缺陷頻率與類型關系的條形圖。
10.一種用于對在目標襯底上檢測到的缺陷進行自動化復檢的設備,所述設備包括:
電子束柱,其用于產生初級電子束且將所述初級電子束聚焦到所述目標襯底的表面上;
可移動載臺,其用于將所述目標襯底固持在所述初級電子束下方;
偏轉器,其用于使所述初級電子束偏轉;
電子檢測器,其用于檢測由于所述初級電子束的碰撞而從所述目標襯底的所述表面發射的次級電子;
x射線檢測器,其經配置以檢測由于所述初級電子束的碰撞而從所述目標襯底的所述表面發射的x射線;及
控制系統,其包括用于存儲計算機可讀代碼及數據的非暫態數據存儲裝置且進一步包括用于執行所述計算機可讀代碼的處理器,其中所述計算機可讀代碼包括用以進行以下操作的指令:
獲得結果文件,所述結果文件包含在所述目標襯底上的有缺陷裸片中檢測到的所述缺陷的位置;
執行所述缺陷的自動化次級電子顯微鏡SEM復檢以便獲得所述缺陷的電子束圖像;
執行基于如根據所述電子束圖像確定的所述缺陷的形態而將所述缺陷自動化分類成若干類型;
選擇特定類型的缺陷以用于自動化能量分散式x射線EDX復檢;及
對所述特定類型的所述缺陷執行所述自動化EDX復檢。
11.根據權利要求10所述的設備,其中所述用以執行所述自動化EDX復檢的指令進一步包括用以進行以下操作的指令:
移動到缺陷位點;
從所述缺陷位點獲得EDX光譜;
從所述缺陷位點移動到參考位點;
從所述參考位點獲得所述EDX光譜;及
從來自所述缺陷位點的所述EDX光譜及來自所述參考位點的所述EDX光譜產生差光譜。
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