[發明專利]光譜測定方法及光譜測定裝置

在審

• 申請號: 201580055331.8
• 申請日: 2015-09-21
• 公開（公告）號: CN107076613A
• 公開（公告）日: 2017-08-18
• 發明（設計）人: 奧野俊明;森島哲;藤本美代子
• 申請（專利權）人: 住友電氣工業株式會社
• 主分類號: G01J3/50
• 分類號: G01J3/50;G01N21/359
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司11112
• 代理人: 顧紅霞,何勝勇

1.一種光譜測定方法，包括：

利用來自光源的測量光照射要測量的對象物體；

利用多個二維排列像素接收由于利用所述測量光進行照射而從所述對象物體輸出的透射光或漫反射光；

多次獲得多個單元區域中的每一個單元區域的光譜數據,所述多個單元區域包括所述對象物體上的至少一個單元區域以及與所述一個單元區域相鄰的單元區域；以及

通過對多次獲得的所述多個單元區域的所述光譜數據求平均來計算所述對象物體的光譜數據。

2.根據權利要求1所述的光譜測定方法，

其中，所述多個二維排列像素包括排列在第一方向上的像素以及排列在與所述第一方向正交的第二方向上的像素，并且波長信息被分配給排列在所述第一方向上的所述像素中每一者，而所述對象物體的位置信息被分配給排列在所述第二方向上的所述像素中每一者，從而獲得所述對象物體上的沿所述第二方向布置的所述多個單元區域中的每一個單元區域的光譜數據。

3.根據權利要求1或2所述的光譜測定方法，

其中，通過使設置在所述多個二維排列像素的前段處的可變波長濾波器暫時改變傳輸波長來獲得所述多個單元區域中的每一個單元區域的所述光譜數據。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的光譜測定方法，

其中，所述測量光包括在1650nm至1750nm的波長范圍內的光。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的光譜測定方法，

其中，所述測量光包括在2100nm至2200nm的波長范圍內的光。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的光譜測定方法，

其中，所述多個二維排列像素包括40,000以上個像素。

7.一種光譜測定裝置，包括：

光源，其將測量光照射在要測量的對象物體上；

圖像采集裝置，其通過利用多個二維排列像素接收由于利用來自所述光源的所述測量光進行照射而從所述對象物體輸出的透射光或漫反射光，來獲得所述對象物體上的多個單元區域中的每一個單元區域的光譜數據；以及

光譜計算裝置，其根據在所述圖像采集裝置中得到的所述多個單元區域中的每一個單元區域的所述光譜數據來計算所述對象物體的光譜數據，

其中，所述圖像采集裝置多次獲得所述多個單元區域中的每一個單元區域的所述光譜數據，以及

所述光譜計算裝置通過對在所述對象物體上的至少一個單元區域以及與所述一個單元區域相鄰的單元區域中多次獲得的所述光譜數據求平均來計算所述對象物體的所述光譜數據。

8.根據權利要求7所述的光譜測定裝置，

其中，所述多個二維排列像素包括排列在第一方向上的像素以及排列在與所述第一方向正交的第二方向上的像素，并且波長信息被分配給排列在所述第一方向上的所述像素中每一者，而所述對象物體的位置信息被分配給排列在所述第二方向上的所述像素中每一者，從而獲得所述對象物體上的沿所述第二方向布置的所述多個單元區域中的每一個單元區域的光譜數據。

9.根據權利要求7或8所述的光譜測定裝置，

其中，所述測量光包括在1650nm至1750nm的波長范圍內的光。

10.根據權利要求7至9中任一項所述的光譜測定裝置，

其中，所述測量光包括在2100nm至2200nm的波長范圍內的光。

11.根據權利要求7至10中任一項所述的光譜測定裝置，

其中，所述圖像采集裝置由40,000以上個像素構成。

12.根據權利要求7所述的光譜測定裝置，

其中，所述圖像采集裝置通過使設置在所述多個像素的前段處的可變波長濾波器暫時改變傳輸波長來在所述多個像素中獲得所述對象物體上的所述多個單元區域中的每一個單元區域的所述光譜數據。