[發明專利]溫度及腐蝕穩定的表面反射器

有效

• 申請號: 201580055303.6
• 申請日: 2015-10-23
• 公開（公告）號: CN106796312B
• 公開（公告）日: 2019-09-06
• 發明（設計）人: R·達斯巴赫
• 申請（專利權）人: 阿爾姆科有限責任公司
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 過曉東

1.一種層系統，其包括：

具有第一側(A)的金屬基板(1)，其中在所述第一側(A)上具有依序自內向外鍍覆的以下層：

層4)由一種材料構成的層，該材料選自亞化學計量的鈦及鋯的氧化物及氧氮化物，或者選自金屬，所述金屬選自鈦、鋯、鉬、鉑及鉻，或者使用這些金屬中一種的或者這些金屬中至少兩種的合金，

層5a)一層，其由具有鉻、鋁、釩、鉬、鈷、鐵、鈦和/或銅作為合金成分的鎳合金構成，或者由選自銅、鋁、鉻、鉬、鎢、鉭、鈦、鉑、釕、銠的金屬及使用這些金屬中一種或這些金屬中至少兩種的合金構成，或者由鐵、鋼或不銹鋼構成，

層6)光學致密的、高純度金屬反射器層，

層7)一層，其選自亞化學計量的鈦、鋯、鉿、釩、鉭、鈮或鉻的氧化物，以及選自金屬，所述金屬選自鉻、鈦、鋯、鉿、釩、鈮、鉭、鎢、鉬、銠及鉑及使用這些金屬中一種或這些金屬中至少兩種的合金，

層9)與直接相鄰的層10)HI層相比具有低折射率的層“LI層”，及

層10)直接相鄰層9)且與層9)LI層相比具有較高折射率的層“HI層”。

2.如權利要求1所述的層系統，其中所述基板(1)含有鋁、銅或不銹鋼，或者由其構成。

3.如權利要求2所述的層系統，其中所述基板1)由以下構件構成：

芯部1a)，其由鋁、鋁合金、銅、鉬、鈦、鉭、不銹鋼、鋼、鐵、鍍錫板或者使用這些材料中至少一種或這些材料中至少兩種的合金構成，

層2a/2b)位于該芯部的一側(2a)上或者該芯部的兩側(2a，2b)上的氧化鋁層。

4.如權利要求3所述的層系統，其中所述芯部(1a)在一側或雙側上配置有滾壓包覆部(1b；1c)，其分別位于所述芯部與所述氧化鋁層之間。

5.如權利要求4所述的層系統，其中所述滾壓包覆部(1b；1c)由鋁含量為至少99.5％的高純度鋁構成。

6.如權利要求4至5之一所述的層系統，其中所述基板(1)的芯部和/或所述滾壓包覆部(1b；1c)由鋁構成，且所述氧化鋁層已經通過陽極化而制成。

7.如權利要求1或2所述的層系統，其中

層4)的厚度為5至50nm，和/或

層5a)的厚度為2至40nm，和/或

層6)的厚度在50至200nm的范圍內，和/或

層7)的厚度為2至20nm，和/或

層9)的厚度為10至200nm，和/或

層10)的厚度為10至200nm。

8.如權利要求1或2所述的層系統，其中所述層4)的材料選自TiO_x及TiN_xO_y。

9.如權利要求1或2所述的層系統，其中所述層5a)的材料選自非鐵磁鎳合金，不銹鋼及銅。

10.如權利要求1或2所述的層系統，其中所述層5a)的材料選自NiV。

11.如權利要求1或2所述的層系統，其中所述反射器層6)的高純度金屬選自純度至少為99.9％的金屬，且選自銀、鋁、金、鉑、銠、鉬及鉻，或者使用這些材料中至少一種或這些材料中至少兩種的合金。

12.如權利要求11所述的層系統，其中所述反射器層6)的高純度金屬選自銀及鋁。

13.如權利要求1或2所述的層系統，其中所述層7)由亞化學計量的鉻氧化物或鈦氧化物構成。

14.如權利要求1或2所述的層系統，其中層9)的折射率n為1.3至1.8，且所述層的材料選自金屬氧化物、金屬氟化物、金屬氮化物、金屬氧氮化物及金屬碳氧氮化物。