[發明專利]磁盤用基板的制造方法和磁盤的制造方法

有效

• 申請號: 201580055296.X
• 申請日: 2015-11-12
• 公開（公告）號: CN107077865B
• 公開（公告）日: 2018-10-02
• 發明（設計）人: S·卡姆拉爾
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社;HOYA玻璃磁盤（泰國）公司
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;B24B37/11;B24B37/20;B24B53/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 龐東成

磁盤用基板的制造方法包括下述研磨處理，即，用一對絨面革型的研磨墊夾持基板，向上述研磨墊與上述基板之間供給包含研磨磨粒的漿料，使上述研磨墊與上述基板相對滑動，由此對上述基板的兩主表面進行研磨。在上述基板的上述研磨處理前，對上述研磨墊實施下述修整處理，即，一邊向設置于上述定盤的上述研磨墊的表面供給冷卻劑，一邊使修整器與上述研磨墊相對滑動，從而將上述研磨墊的表面除去。在上述修整處理中，對上述冷卻劑的溫度或單位時間的供給量進行控制，以使上述冷卻劑從上述研磨墊奪去的熱量在上述修整處理的終止時刻大于開始時刻。

技術領域

本發明涉及磁盤用基板的制造方法和磁盤的制造方法。

背景技術

對于用作信息記錄介質之一的磁盤而言，以往適宜地使用了玻璃基板。現在，應硬盤驅動裝置中的存儲容量增大的要求，實現了磁記錄的高密度化。伴隨于此，進行了下述操作：使磁頭距磁記錄面的懸浮距離極短，從而對磁記錄信息區域進行微細化。對于這種磁盤用玻璃基板而言，為了達成高記錄密度硬盤驅動裝置所需的磁頭低懸浮量化，降低基板的表面凹凸、特別是微小波紋的要求越來越強。

對此，已知一種平行度優異的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法(專利文獻1)。

該制造方法中所用的玻璃基板的雙面研磨裝置的上定盤和下定盤具有包括內周端和外周端的圓盤形狀，在上定盤和下定盤的與玻璃基板對置的面安裝有研磨墊，為了使上定盤的研磨面和下定盤的研磨面分別為規定的形狀，研磨墊利用修整夾具實施了修整處理。此時，在上述玻璃基板的制造方法中，對玻璃基板進行研磨時的研磨液的溫度Ts減去修整處理中所用的修整水的溫度Td所得到的ΔTsd(＝Ts－Td)為-5℃～+7℃。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利第5056961號公報

發明內容

發明所要解決的課題

最近，伴隨著磁頭的小型化、低懸浮量化、磁盤的高速旋轉化等，在磁盤用玻璃基板中應降低的微小波紋的波長帶寬變小。特別是，要求充分降低玻璃基板的波長50～200μm的微小波紋。在這種背景下，利用上述的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法雖然能夠制作平行度優異的玻璃基板，但無法降低上述微小波紋。

為了降低玻璃基板的微小波紋，研磨墊的表面狀態是重要的因素。因此，要求以更好的精度對研磨墊的表面狀態進行管理。在用于達到滿足磁盤用玻璃基板的品質要求的主表面的表面粗糙度的最終研磨處理中，作為研磨墊，使用具有大量空隙(細孔)的發泡聚氨酯制的研磨墊。作為這樣的研磨墊，可以使用絨面革型的研磨墊。對該研磨墊預先進行修整處理，以使表面露出所期望的尺寸的空隙的開口。具體而言，由于未用于研磨的新的研磨墊在其表面未開有開口，因此實施以一定的厚度削去表面的修整處理，從而在其表面設置開口。另外，若將研磨墊反復用于研磨處理，則研磨磨粒或因研磨處理而生成的玻璃淤渣等會作為殘留物附著于研磨墊的表面的開口，從而使研磨速率或玻璃基板的表面粗糙度降低。因此，對于反復用于研磨處理的研磨墊，實施以一定的厚度削去表面的修整處理，從而在研磨墊的表面設置新的開口。

但是，在利用這種修整處理后的研磨墊而同時進行了最終研磨處理的多個玻璃基板之間，會發生玻璃基板的主表面的微小波紋產生偏差的問題。對于這種玻璃基板中的問題而言，在鋁合金制基板的情況下也存在同樣的問題。

因此，本發明的目的在于提供一種磁盤用基板的制造方法和磁盤的制造方法，該磁盤用基板的制造方法在利用相同的研磨裝置同時對2個以上的基板進行研磨處理時，能夠抑制波長50～200μm的微小波紋在基板間的偏差。

用于解決課題的方案

本申請發明人為了解決上述問題，對研磨墊所實施的修整處理進行了詳細的研究。