[發明專利]溢流閥裝置有效
| 申請號： | 201580055276.2 | 申請日： | 2015-10-21 |
| 公開（公告）號： | CN106795974B | 公開（公告）日： | 2019-04-02 |
| 發明（設計）人： | 有里明 | 申請（專利權）人： | 克斯美庫股份有限公司 |
| 主分類號： | F16K17/04 | 分類號： | F16K17/04;F16K17/10 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 劉楊 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 溢流 裝置 | ||
1.一種溢流閥裝置，在閥殼體(1)內，使主溢流閥(10)的第1溢流閥室(3)和輔助溢流閥(11)的第2溢流閥室(7)依次連通，其特征在于，
所述主溢流閥(10)具備：
閥座構件(18)，其設置于所述第1溢流閥室(3)；
第1閥構件(30)，其能夠進退地插入到所述第1溢流閥室(3)，且通過設置于所述閥殼體(1)的第1施力機構(40)被朝向所述閥座構件(18)施力；
第1閥面(35)，其形成于所述第1閥構件(30)；以及
第1閥座(25)，其以與所述第1閥面(35)相向的方式形成于所述閥座構件(18)，
所述輔助溢流閥(11)具備：
第2閥構件(48)，其能夠進退地插入到所述第2溢流閥室(7)；
第2閥面(49)，其形成于所述第2閥構件(48)；
第2閥座(47)，其以與所述第2閥面(49)相向的方式形成于所述第2溢流閥室(7)；以及
第2施力機構(50)，其以將所述第2閥面(49)朝向所述第2閥座(47)施力的方式設置于所述閥殼體(1)，
使通過所述第2施力機構(50)而設定的所述輔助溢流閥(11)的溢流壓力小于通過所述第1施力機構(40)而設定的所述主溢流閥(10)的溢流壓力，
所述主溢流閥(10)與所述輔助溢流閥(11)串聯地配置，以使向所述主溢流閥(10)供給的壓力流體通過所述主溢流閥(10)的所述第1閥座(25)與所述第1閥面(35)的間隙而向所述輔助溢流閥(11)供給。
2.一種溢流閥裝置，在閥殼體(1)內，使主溢流閥(10)的第1溢流閥室(3)和輔助溢流閥(11)的第2溢流閥室(7)依次連通，其特征在于，
所述主溢流閥(10)具備：
第1閥構件(30)，其能夠進退地插入到所述第1溢流閥室(3)；
第1閥面(35)，其形成于所述第1閥構件(30)；
第1閥座(25)，其以與所述第1閥面(35)相向的方式形成于所述第1溢流閥室(3)；以及
第1施力機構(40)，其以將所述第1閥面(35)朝向所述第1閥座(25)施力的方式設置于所述閥殼體(1)，
所述輔助溢流閥(11)具備：
第2閥構件(48)，其能夠進退地插入到所述第2溢流閥室(7)；
第2閥面(49)，其形成于所述第2閥構件(48)；
第2閥座(47)，其以與所述第2閥面(49)相向的方式形成于所述第2溢流閥室(7)；以及
第2施力機構(50)，其以將所述第2閥面(49)朝向所述第2閥座(47)施力的方式設置于所述閥殼體(1)，
使通過所述第2施力機構(50)而設定的所述輔助溢流閥(11)的溢流壓力小于通過所述第1施力機構(40)而設定的所述主溢流閥(10)的溢流壓力，
所述主溢流閥(10)與所述輔助溢流閥(11)串聯地配置，以使向所述主溢流閥(10)供給的壓力流體通過所述主溢流閥(10)的所述第1閥座(25)與所述第1閥面(35)的間隙而向所述輔助溢流閥(11)供給。
3.根據權利要求1或2所述的溢流閥裝置，其特征在于，
在所述第1閥構件(30)的內部設置所述輔助溢流閥(11)。
4.根據權利要求1所述的溢流閥裝置，其特征在于，
在所述閥座構件(18)形成貫通孔(19)，在該貫通孔(19)插入銷(20)，
通過所述銷(20)與所述貫通孔(19)之間的配合間隙來構成節流路(21)。
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