[發明專利]雙層壁結構以及用于制造雙層壁結構的方法

在審

• 申請號: 201580054843.2
• 申請日: 2015-08-11
• 公開（公告）號: CN106795715A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 胡貝特·拉佩斯托費爾
• 申請（專利權）人: 胡貝特·拉佩斯托費爾
• 主分類號: E04C2/04
• 分類號: E04C2/04
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 李鴻達

1.雙層壁結構(1)，所述雙層壁結構包括由混凝土制成的第一壁殼(21)和第二壁殼(22)，加強元件(2)至少部分地整合到所述第一壁殼(21)和所述第二壁殼(22)中，其中，在所述第一壁殼(21)和所述第二壁殼(22)之間設置有隔離元件(23)，其特征在于，所述加強元件(2)具有整合到所述第一壁殼(21)中的第一加強墊(3)并且具有整合到所述第二壁殼(22)中的第二加強墊(4)，其中，所述加強墊(3、4)具有在交叉點(8)中彼此成角度地焊接的金屬的墊桿(7)并且關于其第一墊平面(5)和第二墊平面(6)通過桿形的間距保持件(9)以法向間距(10)彼此成間距地保持，其中，所述間距保持件(9)是金屬的并且通過焊接結構(11)、優選電阻焊連接結構與所述第一加強墊(3)和所述第二加強墊(4)的個別的墊桿(7)不可松脫地連接。

2.按照權利要求1所述的雙層壁結構，其特征在于，所述隔離元件(23)具有基本上板形的形狀，其中，所述隔離元件(23)由所述間距保持件(9)穿過。

3.按照權利要求1或2所述的雙層壁結構，其特征在于，至少個別的間距保持件(9)至少沿背離所述第二加強墊(4)的方向(12)以第一超出部(13)向外突出于所述第一加強墊(3)的第一墊平面(5)并且延伸直至所述第一壁殼(21)的外表面處。

4.按照上述權利要求中任一項所述的雙層壁結構，其特征在于，所述間距保持件(9)還沿背離所述第一加強墊(3)的方向(14)以第二超出部(15)向外突出于所述第二加強墊(4)的第二墊平面(6)并且延伸直至所述第二壁殼(22)的外表面處。

5.按照上述權利要求中任一項所述的雙層壁結構，其特征在于，所述間距保持件(9)相對于所述墊平面(5、6)法向地定向。

6.按照上述權利要求中任一項所述的雙層壁結構，其特征在于，在至少個別的間距保持件(9)的至少一個端部區段(32)中設置有保護帽(33)。

7.按照權利要求6所述的雙層壁結構，其特征在于，所述保護帽(33)由塑料材料制造、特別是通過注射成型件形成并且具有容納孔(34)，所述容納孔的直徑(35)等于或略小于所述間距保持件(9)在所述超出部(13、15)的區域中的直徑(36)地確定尺寸。

8.按照權利要求6或7所述的雙層壁結構，其特征在于，所述保護帽(33)在背離所述容納孔(34)的端部區段(37)中漸縮地和/或倒圓地構造。

9.按照上述權利要求中任一項所述的雙層壁結構，其特征在于，與所述間距保持件(9)成角度(17)地延伸的拉桿(16)與所述第一加強墊(3)和所述第二加強墊(4)的墊桿(7)焊接。

10.按照上述權利要求中任一項所述的雙層壁結構，其特征在于，在所述隔離元件(23)中構造有形式為圓形孔或長形孔的空隙部(24)，所述空隙部由所述間距保持件(9)穿過。

11.按照上述權利要求中任一項所述的雙層壁結構，其特征在于，所述加強元件(2)包括形式為板材的模板元件(48)，所述模板元件在兩個加強墊(3、4)之間延伸并且緊固、特別是焊接在兩個加強墊(3、4)上。