[發明專利]制造光刻結構的光學系統

有效

• 申請號: 201580054446.5
• 申請日: 2015-09-22
• 公開（公告）號: CN106796404B
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: P.許布納;G.克拉姆珀特;S.里克特;T.梅普斯
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司股份公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

1.一種制造光刻結構的光學系統(1)，所述光學系統(1)包括：

--投射光學單元(8)，用于將制造結構的寫入光束引導到基板平面(12)中的基板表面(10)的區域中的寫入焦點(9)，

--偏轉裝置(5)，用于在所述基板表面(10)的所述區域中的寫入場(13)內偏轉所述寫入光束的寫入焦點(9)，

--預覽光學單元(14)，用于將預覽場(15)成像在所述基板表面(10)的所述區域中，其中所述預覽場(15)的面積是所述寫入場(13)的面積的至少10倍，

--其中所述投射光學單元(8)和所述預覽光學單元(14)由共同框架(16)承載，

--基板固定器(18)，所述基板固定器(18)在平行于所述基板表面(10)的平面(xy)中是以兩個平移自由度(x，y)可位移的，

--控制單元(27)，所述控制單元(27)包括存儲器(28)，所述存儲器(28)中存儲所述寫入場(13)的位置相對于所述預覽場(15)的位置的相對坐標(RK_x，RK_y)。

2.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于工藝照相機(23)，所述工藝照相機(23)用于使用所述投射光學單元(8)中的所述寫入光束的束路徑捕獲所述寫入場(13)。

3.根據權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于，所述投射光學單元(8)相對于所述預覽光學單元(14)在垂直于所述基板平面(12)的方向(z)上是可位移的。

4.根據權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于自動聚焦裝置(25)，所述自動聚焦裝置(25)用于確定所述投射光學單元(8)和/或所述預覽光學單元(14)的焦平面。

5.根據權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于，所述投射光學單元(8)具有大于1.0的像側數值孔徑。

6.根據權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于，所述預覽光學單元(14)具有小于0.1的像側數值孔徑。

7.根據權利要求1或2所述的光學系統，其特征在于光源(3)，所述光源(3)用于產生寫入光(4)。

8.一種在根據權利要求1-7中任一項所述的光學系統(1)中確定寫入場(13)的位置相對于預覽場(15)的位置的相對坐標(RK_x，RK_y)的方法，所述方法包括以下步驟：

--使用兩個光學單元(8，14)中的一個，在初始場(13，15)中記錄測試物體，所述兩個光學單元(8，14)來自以下光學組：預覽光學單元(14)和投射光學單元(8)，并且初始場(13，15)即為兩個場中的一個，所述兩個場來自以下場組：預覽場(15)和寫入場(13)，

--在所述初始場(13，15)中定位所述測試物體，使得所述測試物體具有所述初始場(13，15)中的限定位置，

--通過所述基板固定器(18)執行所述測試物體在所述初始場(13，15)與目標場(15，13)之間的粗位移，所述目標場即為來自所述場組的所述兩個場中的另一個，

--登記此粗位移的粗相對坐標(RK_x，粗；RK_y，粗)，

--使用來自所述光學組的所述兩個光學單元(14，8)中的另一個記錄所述測試物體，

--在所述目標場(15，13)中精細定位所述測試物體，使得所述測試物體具有所述目標場(15，13)中的限定位置，

--登記在所述精細定位期間所述粗相對坐標(RK_x，粗；RK_y，粗)的改變，并且從所述粗相對坐標(RK_x，粗；RK_y，粗)和所述登記的結果產生所述相對坐標(RK_x，RK_y)。