[發明專利]光軸方向掃描型顯微鏡裝置

在審

• 申請號: 201580053458.6
• 申請日: 2015-10-02
• 公開（公告）號: CN107076974A
• 公開（公告）日: 2017-08-18
• 發明（設計）人: 福山宏也
• 申請（專利權）人: 奧林巴斯株式會社
• 主分類號: G02B21/00
• 分類號: G02B21/00;G02B13/00;G02B21/06;G02B21/36
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,于靖帥

1.一種光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其具有成像光學系統和掃描系統，

該成像光學系統具有：

多個成像透鏡，它們形成最終像和至少一個中間像；

第一相位調制元件，其配置于比通過該成像透鏡形成的任意的所述中間像靠物體側的位置，對來自所述物體的光的波面施加空間干擾；以及

第二相位調制元件，其配置于與該第一相位調制元件之間夾著至少一個中間像的位置，消除由所述第一相位調制元件對來自所述物體的光的波面施加的空間干擾，

該掃描系統用于在光軸方向上對由于來自所述物體的波面通過所述成像光學系統而成的像進行掃描。

2.根據權利要求1所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

所述第一相位調制元件和所述第二相位調制元件配置于在光學上共軛的位置。

3.根據權利要求1或2所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

所述第一相位調制元件和所述第二相位調制元件配置于所述成像透鏡的光瞳位置附近。

4.根據權利要求1至3中的任意一項所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

該光軸方向掃描型顯微鏡裝置具有光路長度可變單元，該光路長度可變單元能夠變更配置于夾著任意的所述中間像的位置的兩個所述成像透鏡之間的光路長度。

5.根據權利要求4所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

所述光路長度可變單元具有：

平面鏡，其與光軸垂直地配置，以折返的方式將形成所述中間像的光反射；

致動器，其使該平面鏡在光軸方向上移動；以及

分束器，其將被所述平面鏡反射的光向兩個方向分支。

6.根據權利要求1至3中的任意一項所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

該光軸方向掃描型顯微鏡裝置在任意的所述成像透鏡的光瞳位置附近具有可變空間相位調制元件，該可變空間相位調制元件通過變更對光的波面施加的空間上的相位調制來使所述最終像的位置在光軸方向上變化。

7.根據權利要求6所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

所述第一相位調制元件或所述第二相位調制元件中的至少一方的功能由所述可變空間相位調制元件承擔。

8.根據權利要求1至7中的任意一項所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

所述第一相位調制元件和所述第二相位調制元件對光束的波面施加在與光軸垂直的一維方向上變化的相位調制。

9.根據權利要求1至7中的任意一項所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

所述第一相位調制元件和所述第二相位調制元件對光束的波面施加在與光軸垂直的二維方向上變化的相位調制。

10.根據權利要求1至9中的任意一項所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

所述第一相位調制元件和所述第二相位調制元件是在使光透射時對波面施加相位調制的透射型元件。

11.根據權利要求1至9中的任意一項所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

所述第一相位調制元件和所述第二相位調制元件是在使光反射時對波面施加相位調制的反射型元件。

12.根據權利要求1至11中的任意一項所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

所述第一相位調制元件和所述第二相位調制元件具有互補的形狀。

13.根據權利要求10所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

所述第一相位調制元件和所述第二相位調制元件利用透明材料的折射率分布來對波面施加相位調制。

14.根據權利要求1至13中的任意一項所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

該光軸方向掃描型顯微鏡裝置還具有光源，該光源配置于所述成像光學系統的物體側，用于產生入射給該成像光學系統的照明光。

15.根據權利要求1至13中的任意一項所述的光軸方向掃描型顯微鏡裝置，其中，

該光軸方向掃描型顯微鏡裝置還具有光檢測器，該光檢測器配置于所述成像光學系統的最終像側，對從觀察對象物發出的光進行檢測。