[發(fā)明專利]研磨用組合物及使用其的研磨方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201580053307.0
• 申請(qǐng)日: 2015-09-18
• 公開（公告）號(hào): CN107075346B
• 公開（公告）日: 2020-04-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吉崎幸信
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 福吉米株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C09K3/14
• 分類號(hào): C09K3/14;B24B37/00;C09G1/02;H01L21/304
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種研磨用組合物，其含有表面固定有有機(jī)酸的二氧化硅和含聚氧亞烷基化合物，

所述含聚氧亞烷基化合物的通過凝膠滲透色譜法GPC得到的聚乙二醇換算的重均分子量的分子量分布具有2個(gè)以上的峰，所述含聚氧亞烷基化合物為選自由聚乙二醇、聚丙二醇及聚丁二醇組成的組中的1種或2種以上，

所述研磨用組合物的pH為7以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨用組合物，其中，所述有機(jī)酸為磺酸或羧酸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的研磨用組合物，其中，所述表面固定有有機(jī)酸的二氧化硅的平均一次粒徑為5~50nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的研磨用組合物，其中，所述表面固定有有機(jī)酸的二氧化硅的平均二次粒徑為10~100nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的研磨用組合物，其中，所述研磨用組合物的pH為3以下。

6.一種研磨用組合物的制造方法，其包括：

將表面固定有有機(jī)酸的二氧化硅和含聚氧亞烷基化合物混合的工序；和

將pH調(diào)節(jié)為7以下的工序；

所述含聚氧亞烷基化合物的通過凝膠滲透色譜法GPC得到的聚乙二醇換算的重均分子量的分子量分布具有2個(gè)以上的峰，所述含聚氧亞烷基化合物為選自由聚乙二醇、聚丙二醇及聚丁二醇組成的組中的1種或2種以上。

7.一種研磨方法，其使用權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的研磨用組合物或通過權(quán)利要求6的制造方法制造的研磨用組合物對(duì)研磨對(duì)象物進(jìn)行研磨。

8.一種基板的制造方法，其包括通過權(quán)利要求7所述的研磨方法對(duì)研磨對(duì)象物進(jìn)行研磨的工序。