[發明專利]硬涂薄膜、硬涂薄膜的制造方法、偏振片及液晶顯示裝置

有效

• 申請號: 201580053169.6
• 申請日: 2015-09-29
• 公開（公告）號: CN106795309B
• 公開（公告）日: 2019-11-01
• 發明（設計）人: 植木啟吾;西村直彌;蒲原一男;高田勝之
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;B32B27/30;G02B1/14;G02B5/30
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 周欣;陳建全

1.一種硬涂薄膜，其為在膜厚方向的整個區域混合有具有能量射線固化性基團的化合物的聚合物和樹脂的、膜厚為25μm以下的硬涂薄膜，

所述硬涂薄膜具有下述式(1)所表示的所述樹脂的濃度的比率在至少一個表面或膜厚方向的中央部成為最大的分布，

(樹脂的濃度)/{(具有能量射線固化性基團的化合物的聚合物的濃度)+(樹脂的濃度)}×100(％) 式(1)。

2.根據權利要求1所述的硬涂薄膜，其中，

在至少一個表面，所述樹脂的濃度的比率為70％以下。

3.根據權利要求1或2所述的硬涂薄膜，其中，

所述樹脂的濃度的比率在一個表面為最小，在另一個表面成為最大。

4.根據權利要求3所述的硬涂薄膜，其中，

兩個表面的所述樹脂的濃度的比率存在10％～85％的差。

5.根據權利要求1或2所述的硬涂薄膜，其中，

所述樹脂的濃度的比率在所述中央部成為最大。

6.根據權利要求1或2所述的硬涂薄膜，其中，

所述樹脂為纖維素酰化物。

7.根據權利要求1或2所述的硬涂薄膜，其中，

所述樹脂為(甲基)丙烯酸類聚合物。

8.根據權利要求1或2所述的硬涂薄膜，其中，

所述具有能量射線固化性基團的化合物為具有烯屬不飽和雙鍵基團及環氧基中的至少一個的化合物。

9.根據權利要求1或2所述的硬涂薄膜，其中，

所述具有能量射線固化性基團的化合物為在分子內具有1個以上的環氧基和1個以上的烯屬不飽和雙鍵基團的化合物。

10.根據權利要求1或2所述的硬涂薄膜，其中，

所述具有能量射線固化性基團的化合物為在分子內具有1個以上的(甲基)丙烯酰基的化合物。

11.根據權利要求1或2所述的硬涂薄膜，其中，

所述具有能量射線固化性基團的化合物的分子量為600以下。

12.一種硬涂薄膜的制造方法，所述制造方法為權利要求1至11中任一項所述的硬涂薄膜的制造方法，其中，

從膜厚為25μm以下的含有樹脂的透光性支撐體的至少單面開始涂布含有具有能量射線固化性基團的化合物的硬涂層形成用組合物，并使其在所述透光性支撐體的厚度方向的整個區域滲透之后，照射電離放射線而使所述具有能量射線固化性基團的化合物固化。

13.一種偏振片，其包含偏振器和至少1片權利要求1至11中任一項所述的硬涂薄膜。

14.一種液晶顯示裝置，其包含至少1片權利要求1至11中任一項所述的硬涂薄膜或權利要求13所述的偏振片。