[發明專利]用于電致變色裝置的反電極有效
| 申請號： | 201580053092.2 | 申請日： | 2015-09-01 |
| 公開（公告）號： | CN106796378B | 公開（公告）日： | 2020-11-20 |
| 發明（設計）人： | 丹恩·吉拉斯皮耶;安舒·A·普拉丹;斯里達爾·K·凱拉薩姆 | 申請（專利權）人： | 唯景公司 |
| 主分類號： | G02F1/1524 | 分類號： | G02F1/1524;G02F1/155 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人： | 章蕾 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 變色 裝置 電極 | ||
1.一種制作電致變色疊層的方法，所述方法包括：
形成陰極著色層，所述陰極著色層包含陰極著色電致變色材料；以及
形成陽極著色層，所述陽極著色層包含鎳-鎢-錫-氧化物(NiWSnO)。
2.如權利要求1所述的方法，其中所述鎳-鎢-錫-氧化物包含1:1與4:1之間的Ni:(W+Sn)原子比。
3.如權利要求2所述的方法，其中所述鎳-鎢-錫-氧化物包含1:1與3:1之間的Ni:(W+Sn)原子比。
4.如權利要求3所述的方法，其中所述鎳-鎢-錫-氧化物包含2:1與3:1之間的Ni:(W+Sn)原子比。
5.如權利要求3所述的方法，其中所述鎳-鎢-錫-氧化物包含1.5:1與2.5:1之間的Ni:(W+Sn)原子比。
6.如權利要求5所述的方法，其中所述鎳-鎢-錫-氧化物包含2:1與2.5:1之間的Ni:(W+Sn)原子比。
7.如權利要求1至6中任一項所述的方法，其中所述鎳-鎢-錫-氧化物包含1:9與9:1之間的W:Sn原子比。
8.如權利要求7所述的方法，其中所述鎳-鎢-錫-氧化物包含1:1與3:1之間的W:Sn原子比。
9.如權利要求8所述的方法，其中所述鎳-鎢-錫-氧化物包含1.5:1與2.5:1之間的W:Sn原子比。
10.如權利要求9所述的方法，其中所述鎳-鎢-錫-氧化物包含1.5:1與2:1之間的W:Sn原子比。
11.如權利要求1至6中任一項所述的方法，其中形成所述陽極著色層包括對一個或多個濺射靶進行濺射以形成所述鎳-鎢-錫-氧化物。
12.如權利要求11所述的方法，其中所述濺射靶中的所述一個或多個中的至少一個包含選自由以下組成的群組的元素金屬：鎳、鎢以及錫。
13.如權利要求11所述的方法，其中所述濺射靶中的所述一個或多個中的至少一個包含合金，所述合金包含兩種或更多種選自由以下組成的群組的金屬：鎳、鎢以及錫。
14.如權利要求11所述的方法，其中所述濺射靶中的所述一個或多個中的至少一個包含氧化物。
15.如權利要求1至6中任一項所述的方法，其中所述陽極著色層為無定形的。
16.如權利要求1至6中任一項所述的方法，其中彼此直接物理接觸而形成所述陰極著色層和所述陽極著色層，在它們之間未沉積單獨的離子導體層。
17.如權利要求1至6中任一項所述的方法，其中所述陰極著色層包含氧化鎢，任選摻雜有一種或多種選自由鉬、釩以及鈦組成的群組的摻雜物。
18.一種電致變色疊層，其包括：
陰極著色層，所述陰極著色層包含陰極著色材料；以及
陽極著色層，所述陽極著色層包含鎳-鎢-錫-氧化物(NiWSnO)。
19.如權利要求18所述的電致變色疊層，其中所述鎳-鎢-錫-氧化物包含1:1與4:1之間的Ni:(W+Sn)原子比。
20.如權利要求19所述的電致變色疊層，其中所述鎳-鎢-錫-氧化物包含1:1與3:1之間的Ni:(W+Sn)原子比。
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