[發明專利]高數值孔徑物鏡系統

有效

• 申請號: 201580052510.6
• 申請日: 2015-07-29
• 公開（公告）號: CN107076966B
• 公開（公告）日: 2022-05-24
• 發明（設計）人: L·雷日科夫
• 申請（專利權）人: ASML控股股份有限公司
• 主分類號: G02B13/18
• 分類號: G02B13/18;G02B13/14;G03F7/20;G02B27/00;G01N21/88;G01N21/95;G01N21/47
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;呂世磊

1.一種物鏡系統，包括：

第一透鏡組，包括：

第一正彎月透鏡，和

第二正彎月透鏡，被定位成沿著所述物鏡系統的光軸與所述第一正彎月透鏡相距一距離，所述距離在所述物鏡系統的焦距的2％至8％的范圍內，其中所述第二正彎月透鏡包括非球面凹面，所述第一正彎月透鏡包括具有在從45到50范圍或大于50阿貝數的光學材料，所述第一正彎月透鏡比所述第二正彎月透鏡大15的阿貝數，以允許所述第一透鏡組進行的彗差和色差的校正或減小；

第二透鏡組，包括三合透鏡，其中所述三合透鏡包括：

第一彎月透鏡，包括第一表面和第二表面，

第二彎月透鏡，包括第三表面和第四表面，所述第三表面與所述第二表面實質上接觸，和

第一雙凸透鏡，包括第五表面和第六表面，所述第五表面與所述第四表面實質上接觸；以及

第三透鏡組，包括：

第一雙凹透鏡；和

雙合透鏡。

2.根據權利要求1所述的物鏡系統，其中所述第一透鏡組被配置成同時校正所述物鏡系統的彗差和色差。

3.根據權利要求1所述的物鏡系統，其中所述第二透鏡組被配置成校正所述物鏡系統的復消色差像差。

4.根據權利要求1所述的物鏡系統，其中所述第三透鏡組被配置成校正所述物鏡系統的場曲像差和光瞳像差。

5.根據權利要求1所述的物鏡系統，其中所述第一正彎月透鏡和所述第二正彎月透鏡均包括球面表面。

6.根據權利要求1所述的物鏡系統，其中所述第一雙凹透鏡和所述雙合透鏡彼此相鄰并分離。

7.根據權利要求1所述的物鏡系統，其中所述第一雙凹透鏡和所述雙合透鏡彼此膠合。

8.根據權利要求1所述的物鏡系統，其中所述雙合透鏡包括彼此膠合的第二雙凸透鏡和第二雙凹透鏡。

9.根據權利要求1所述的物鏡系統，進一步包括在所述第二透鏡組與所述第三透鏡組之間的入射光瞳和孔徑光闌。

10.根據權利要求1所述的物鏡系統，其中所述第一正彎月透鏡包括具有大于70的阿貝數的光學材料。

11.一種配置成測量襯底的性質的檢查系統，所述檢查系統包括：

輻射源，被配置成產生輻射束；

光學系統，被配置成將所述輻射束聚焦到所述襯底的表面上，所述光學系統包括：

第一透鏡組，包括：

第一正彎月透鏡，和

第二正彎月透鏡，被定位成沿著所述光學系統的光軸與所述第一正彎月透鏡相距一距離，所述距離在所述光學系統的焦距的2％至8％的范圍內，其中所述第二正彎月透鏡包括非球面凹面，所述第一正彎月透鏡包括具有在從45到50范圍或大于50的阿貝數的光學材料，所述第一正彎月透鏡比所述第二正彎月透鏡大15的阿貝數，以允許所述第一透鏡組進行的彗差和色差的校正或減小，

第二透鏡組，包括

第三正彎月透鏡，

負彎月透鏡，被膠合至所述第三正彎月透鏡，和

雙凸透鏡，被膠合至所述負彎月透鏡，以及

第三透鏡組，包括：

雙凹透鏡，和

雙合透鏡；以及

檢測器，被配置成檢測從所述襯底的所述表面反射的所述輻射束。

12.根據權利要求11所述的檢查系統，其中：

所述第三正彎月透鏡包括氟化鈣；

所述負彎月透鏡包括重冕玻璃和重火石玻璃中的至少一種；且

所述雙凸透鏡包括具有大于1.75的折射率的重火石玻璃。

13.根據權利要求11所述的檢查系統，其中：

所述第三正彎月透鏡包括氟化鈣；

所述負彎月透鏡包括鑭火石玻璃；且

所述雙凸透鏡包括具有大于1.75的折射率的重火石玻璃。