[發明專利]特別用于工業過程的激光源

有效

• 申請號: 201580051884.6
• 申請日: 2015-09-22
• 公開（公告）號: CN106716746B
• 公開（公告）日: 2020-01-17
• 發明（設計）人: N.馬格納諾;M.加特蒂格里奧
• 申請（專利權）人: 康茂股份公司;普萊瑪電子股份公司
• 主分類號: H01S3/00
• 分類號: H01S3/00;H01S3/067;H01S3/23
• 代理公司: 72001 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 周學斌;鄭冀之

1.一種特別是供工業過程使用的激光源，包括：

-激光束生成單元（2），其包括用于生成第一激光束的一個或多個二極管激光源（20），

-光學放大單元（6），其包括至少一個放大器模塊（60），所述至少一個放大器模塊（60）被適配成利用從由所述生成單元（2）發射的所述第一激光束導出的激光進行泵浦，并且被適配成在其輸出處發射第二激光束，所述第二激光束的特征在于相對于來自所述生成單元（2 ）的輸出處的所述第一激光束具有較高射束質量和較低功率值，以及

-激光束變換和尋址光學單元（4），其插入在所述生成單元（2）和所述光學放大單元（6）之間，所述激光束變換和尋址光學單元（4）包括：

-入口（40），用于接收來自所述生成單元（2）的所述第一激光束，

-第一光學線路（44），用于朝向所述激光源（1）的第一出口（U1）轉發所述第一激光束，

-第二光學線路（45），用于朝向所述光學放大單元（6）的所述至少一個放大器模塊（60）轉發所述第一激光束，以及

-光學路徑選擇器設備（43），其插入在所述入口（40）和所述第一和第二光學線路（44，45）之間，以用于將來自所述生成單元（2）的所述第一激光束選擇性地：

-朝向所述第一光學線路（44）引導，以便生成在所述激光源（1）的所述第一出口（U1）處對具有相對較高功率和相對較低質量的激光束的發射，

或者：

-朝向所述第二光學線路（45）引導，以便生成在所述激光源（1）的第二出口（U2）處對具有相對較低功率和相對較高質量的激光束的發射，

其中所述光學放大單元（6）包括并行布置的多個放大器模塊，其具有由所述第二光學線路（45）并行供應的相應入口（5）和連接到全部都朝向所述第二出口（U2）匯聚的光學線路（64）的相應出口。

2.根據權利要求1所述的激光源，其特征在于，所述至少一個放大器模塊（60）包括至少一個光纖（61），其包括活性材料，所述活性材料被適配成放大進入所述模塊（60）中并且通過所述變換和尋址光學單元（4）的所述第二光學線路（45）而來自所述生成單元（2）的激光束。

3.根據權利要求1所述的激光源，其特征在于，所述光學路徑選擇器設備由可在第一操作位置和第二操作位置之間移動的反射鏡（43）構成，所述第一操作位置和第二操作位置分別對應于將來自所述生成單元（2）的激光束朝向所述第一光學線路（44）以及朝向所述第二光學線路（45）進行引導。

4.根據權利要求3所述的激光源，其特征在于，在所述第一操作位置中，所述反射鏡（43）不攔截來自所述生成單元（2）的所述第一激光束，并且在所述第二操作位置中，所述反射鏡（43）攔截來自所述生成單元的所述第一激光束。

5.根據權利要求4所述的激光源，其特征在于，在所述第一操作位置中，所述反射鏡（43）使得來自所述生成單元（2）的激光束能夠在所述第一光學線路（44）的方向上行進，并且在所述第二操作位置中，所述反射鏡（43 ）將來自所述生成單元（2）的激光束反射到所述第二光學線路（45）的方向上。

6.根據權利要求3所述的激光源，其特征在于，在所述第一操作位置中和在所述第二操作位置中，所述反射鏡（43）不同地取向，以便將來自所述生成單元（2）的所述第一激光束分別朝向所述第一光學線路（44）以及朝向所述第二光學線路（45）反射。

7.根據權利要求1所述的激光源，其特征在于，所述生成單元（2）的出口和所述變換和尋址光學單元（4）的入口由光纖（3）彼此連接。

8.根據權利要求1所述的激光源，其特征在于，所述變換和尋址光學單元（4）包括用于傳播所述激光束的自由空間S，在其中插入所述光學路徑選擇器設備。