[發(fā)明專利]層疊膜和撓性電子設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580051842.2
• 申請日: 2015-09-28
• 公開（公告）號: CN106715116A
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李冠;山下恭弘;野殿光紀(jì)
• 申請（專利權(quán)）人: 住友化學(xué)株式會(huì)社
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11227
• 代理人: 趙雁,金世煜

1.一種層疊膜，其具有撓性基材、與所述基材的至少單面相接而設(shè)置的有機(jī)層和在所述有機(jī)層上相接而設(shè)置的薄膜層，

所述有機(jī)層含有丙烯酸酯樹脂，

所述薄膜層含有硅原子、氧原子和碳原子，

在分別表示所述薄膜層的膜厚方向的距所述薄膜層的表面的距離，與相對于位于所述距離的點(diǎn)的所述薄膜層中含有的硅原子、氧原子和碳原子的總數(shù)的硅原子數(shù)的比率即硅的原子數(shù)比、氧原子數(shù)的比率即氧的原子數(shù)比、碳原子數(shù)的比率即碳的原子數(shù)比的關(guān)系的硅分布曲線、氧分布曲線和碳分布曲線中，全部滿足下述條件(i)～(iii)：

(i)硅的原子數(shù)比、氧的原子數(shù)比和碳的原子數(shù)比在所述薄膜層的膜厚方向的90％以上的區(qū)域中滿足下述式(I)，

氧的原子數(shù)比＞硅的原子數(shù)比＞碳的原子數(shù)比(I)

(ii)所述碳分布曲線具有至少一個(gè)極值，

(iii)所述碳分布曲線中的碳的原子數(shù)比的最大值與最小值之差的絕對值為0.05以上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊膜，其中，所述有機(jī)層可以含有填料成分，從所述有機(jī)層的總重量中除去所述有機(jī)層中含有的填料成分而得到重量W₀，將所述丙烯酸酯樹脂成分的重量W₁相對于重量W₀以重量比W₁/W₀表示的情況下，重量比W₁/W₀在下述式(2)的范圍，

0.60≤W₁/W₀≤1.00(2)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的層疊膜，其中，從所述有機(jī)層的總重量中除去所述有機(jī)層中含有的填料成分而得到重量W₀，將有機(jī)硅化合物成分的重量W₂相對于重量W₀以重量比W₂/W₀表示的情況下，重量比W₂/W₀在下述式(3)的范圍，

W₂/W₀≤0.10(3)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的層疊膜，其中，對所述薄膜層表面進(jìn)行紅外光譜測定的情況下，存在于950～1050cm^-1的峰值強(qiáng)度(I₁)與存在于1240～1290cm^-1的峰值強(qiáng)度(I₂)的強(qiáng)度比在下述式(4)的范圍，

0.01≤I₂/I₁＜0.05(4)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的層疊膜，其中，對所述薄膜層表面進(jìn)行紅外光譜測定的情況下，存在于950～1050cm^-1的峰值強(qiáng)度(I₁)與存在于770～830cm^-1的峰值強(qiáng)度(I₃)的強(qiáng)度比在下述式(5)的范圍，

0.25≤I₃/I₁≤0.50(5)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的層疊膜，其中，對所述薄膜層表面進(jìn)行紅外光譜測定的情況下，存在于770～830cm^-1的峰值強(qiáng)度(I₃)與存在于870～910cm^-1的峰值強(qiáng)度(I₄)的強(qiáng)度比在下述式(6)的范圍，

0.70≤I₄/I₃＜1.00(6)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的層疊膜，其中，所述薄膜層是利用等離子體CVD法而形成的。

8.一種撓性電子設(shè)備，其中，將權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的層疊膜用作基板。