[發(fā)明專利]相位調(diào)制設(shè)備及激光顯微鏡

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580051817.4
• 申請日: 2015-06-22
• 公開（公告）號: CN106716220A
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 田邊綾乃
• 申請（專利權(quán)）人: 西鐵城時計株式會社
• 主分類號: G02B21/06
• 分類號: G02B21/06;G02F1/01;G02F1/13
• 代理公司: 上海華誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司31300
• 代理人: 劉煜

1.一種相位調(diào)制設(shè)備，其對由包含物鏡的光學系統(tǒng)產(chǎn)生的波像差進行校正，所述物鏡配置在出射自光源的光的光束的光路中，所述相位調(diào)制設(shè)備的特征在于，具有：

第1相位調(diào)制元件，其具有多個第1電極，根據(jù)施加至該多個第1電極中的各電極的電壓來調(diào)制所述光束的相位，所述多個第1電極配置為將消除與所述波像差的第2像差成分相對于所述波像差的第1像差成分的第1比相應(yīng)的相位分布的相位調(diào)制量賦予所述光束；

第2相位調(diào)制元件，其具有多個第2電極，根據(jù)施加至該多個第2電極中的各電極的電壓來調(diào)制所述光束的相位，所述多個第2電極配置為將消除與所述波像差的第2像差成分相對于所述波像差的第1像差成分的第2比相應(yīng)的相位分布的相位調(diào)制量賦予所述光束，所述第2比小于所述第1比；以及

控制電路，其根據(jù)從所述物鏡到所述光束的聚光位置為止的光路長度來控制施加至所述多個第1電極及所述多個第2電極的電壓，

所述第1像差成分包含所述波像差的3次球面像差成分，而且所述第2像差成分包含所述波像差的5次球面像差成分，并且，所述第1比及所述第2比中的一方是從所述物鏡到所述聚光位置為止的光路長度為規(guī)定長度時的所述波像差的所述第2像差成分相對于所述第1像差成分的比。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位調(diào)制設(shè)備，其特征在于，

所述多個第1電極及所述多個第2電極分別為以所述光學系統(tǒng)的光軸為中心的同心圓狀的多個環(huán)帶電極，且所述多個第1電極及所述多個第2電極是以如下方式配置的，即，所述多個第1電極中所述第1相位調(diào)制元件對所述光束賦予的所述相位調(diào)制量達到極值的電極中的距所述光軸最近的電極與所述光軸間的距離比所述多個第2電極中所述第2相位調(diào)制元件對所述光束賦予的所述相位調(diào)制量達到極值的電極中的距所述光軸最近的電極與所述光軸間的距離大。

3.一種相位調(diào)制設(shè)備，其對由包含物鏡的光學系統(tǒng)產(chǎn)生的波像差進行校正，所述物鏡配置在出射自光源的光的光束的光路中，所述相位調(diào)制設(shè)備的特征在于，具有：

相位調(diào)制元件，其在供所述光束穿過的一面具有多個第1電極，在與所述一面相對的另一面具有多個第2電極，根據(jù)施加至該多個第1電極及該多個第2電極中的各電極的電壓來調(diào)制所述光束的相位，所述多個第1電極配置為將消除與所述波像差的第2像差成分相對于所述波像差的第1像差成分的第1比相應(yīng)的相位分布的相位調(diào)制量賦予所述光束，所述多個第2電極配置為將消除與所述波像差的第2像差成分相對于所述波像差的第1像差成分的第2比相應(yīng)的相位分布的相位調(diào)制量賦予所述光束，所述第2比小于所述第1比；以及

控制電路，其根據(jù)從所述物鏡到所述光束的聚光位置為止的光路長度來控制施加至所述多個第1電極及所述多個第2電極的電壓，

所述第1像差成分包含所述波像差的3次球面像差成分，而且所述第2像差成分包含所述波像差的5次球面像差成分，并且，所述第1比及所述第2比中的一方是從所述物鏡到所述聚光位置為止的光路長度為規(guī)定長度時的所述波像差的所述第2像差成分相對于所述第1像差成分的比。

4.一種激光顯微鏡，其特征在于，具有：

相干光源，其照射相干光；

第1光學系統(tǒng)，其包含物鏡，所述物鏡配置在所述相干光的光束的光路中，并將所述光束會聚在試樣上；

第2光學系統(tǒng)，其將產(chǎn)生自所述試樣的包含所述試樣的信息的光束傳送至檢測器；以及

根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的相位調(diào)制設(shè)備，

所述相位調(diào)制設(shè)備的相位調(diào)制元件配置在所述相干光源與所述物鏡之間。