[發(fā)明專利]帶電粒子光學器件與真空室變形的隔離

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580050950.8
• 申請日: 2015-09-16
• 公開（公告）號: CN106716594B
• 公開（公告）日: 2019-10-15
• 發(fā)明（設計）人: G·佩雷爾曼
• 申請（專利權）人: 安捷倫科技有限公司
• 主分類號: H01J49/26
• 分類號: H01J49/26;H01J49/10;H01J37/26
• 代理公司: 北京坤瑞律師事務所 11494
• 代理人: 封新琴

1.一種帶電粒子處理設備，包括：

真空室，所述真空室包括室壁；

光學器件板；

帶電粒子光學器件，所述帶電粒子光學器件安裝到所述光學器件板；

多個安裝構件，所述安裝構件聯(lián)接在所述光學器件板和所述室壁之間，其中，所述安裝構件被構造用于相互協(xié)作地約束所述光學器件板的6個自由度，所述安裝構件中的至少一個能夠響應于所述室壁的變形在至少一個方向上移動或者撓曲。

2.根據(jù)權利要求1所述的帶電粒子處理設備，其中，所述室壁包括多個內(nèi)表面，所述安裝構件具有的構造選自由下列構造組成的組：所述安裝構件每個都聯(lián)接到同一內(nèi)表面；所述安裝構件中至少兩個聯(lián)接到不同的內(nèi)表面。

3.根據(jù)權利要求1所述的帶電粒子處理設備，其中，所述多個安裝構件包括至少三個安裝構件，或者所述多個安裝構件在三個到六個安裝構件的范圍內(nèi)。

4.根據(jù)權利要求1所述的帶電粒子處理設備，其中，所述至少一個安裝構件能夠在所述至少一個方向上平移，或者所述至少一個安裝構件能夠繞軸線旋轉。

5.根據(jù)權利要求1所述的帶電粒子處理設備，其中：

所述至少一個安裝構件包括沿著z軸的高度，以及正交于所述z軸且由第一橫向方向和正交于所述第一橫向方向的第二橫向方向限定的橫向橫截面；

所述至少一個安裝構件在z方向上是剛性的，在所述第一橫向方向上是剛性的，并且具有選自由以下構造組成的組的構造：

所述至少一個安裝構件能夠在所述第二橫向方向上移動或者撓曲；

所述至少一個安裝構件能夠圍繞所述第一橫向方向彎折；

以上兩種構造的組合。

6.根據(jù)權利要求1所述的帶電粒子處理設備，其中，所述至少一個安裝構件包括：

沿著z軸的高度；

正交于所述z軸并且由第一橫向方向和正交于所述第一橫向方向的第二橫向方向限定的橫向橫截面；

沿著所述第一橫向方向延伸的一對通道；和

側面，所述側面沿著所述第二橫向方向延伸，并且包括在所述通道之間的橫截面面積減小的區(qū)域。

7.根據(jù)權利要求1所述的帶電粒子處理設備，其中，所述至少一個安裝構件包括絞鏈、撓曲絞鏈、雙絞鏈或者雙撓曲絞鏈。

8.根據(jù)權利要求1所述的帶電粒子處理設備，其中，所述至少一個安裝構件包括：

沿著z軸的高度；

正交于所述z軸并且由第一橫向方向和正交于所述第一橫向方向的第二橫向方向限定的橫向橫截面；

沿著所述第一橫向方向延伸的一對第一通道；

沿著第一橫向方向延伸并且沿著所述z軸與所述第一通道隔開的一對第二通道；

側面，所述側面沿著所述第二橫向方向延伸，并且包括在所述第一通道之間的橫截面面積減小的第一區(qū)域和在所述第二通道之間的橫截面面積減小的第二區(qū)域。

9.根據(jù)權利要求1所述的帶電粒子處理設備，其中，所述至少一個安裝構件是能夠響應于所述室壁的變形在至少第一方向上移動或者撓曲的第一安裝構件，所述多個安裝構件包括能夠響應于所述室壁的變形在至少第二方向移動或者撓曲的第二安裝構件，所述第二方向不同于所述第一方向。

10.根據(jù)權利要求1所述的帶電粒子處理設備，其中，所述光學器件板包括第一側和反向的第二側，所述多個安裝構件包括在所述第一側附近聯(lián)接到所述光學器件板的第一安裝構件、在所述第二側附近聯(lián)接到所述光學器件板的第二安裝構件和在所述第二側附近聯(lián)接到所述光學器件板且與所述第二安裝構件隔開一段距離的第三安裝構件。

11.根據(jù)權利要求1所述的帶電粒子處理設備，其中，聯(lián)接在所述光學器件板和所述室壁之間的安裝構件是內(nèi)部安裝構件，并且還包括聯(lián)接到所述真空室的多個外部安裝構件。