[發(fā)明專利]微光刻投射曝光裝置的光學(xué)配置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580050929.8
• 申請日: 2015-09-17
• 公開（公告）號: CN107077076B
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J.普羅赫諾;D.謝弗
• 申請（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種微光刻投射曝光裝置(10)的光學(xué)配置，其中該光學(xué)配置(40)包含：

(a)反射鏡元件(M6)，具有反射鏡基板(34)和形成于該反射鏡基板(34)的表面上的反射區(qū)域；

(b)至少一個致動器(46)，配置為以至少一個自由度移動該反射鏡元件(M6)；以及

(c)安裝元件(42)，作用于該反射鏡基板(34)，

其中該安裝元件(42)至少約在平衡位置獨自保持該反射鏡元件(M6)，使得該至少一個致動器(46)在該平衡位置至少約為不受力；

其中在該反射鏡元件(M6)的重心(S)作用的重力(G)的有效線(W_G)不與該反射區(qū)域(36)相交；以及

其中該安裝元件(42)施加安裝力(F)于該反射鏡元件(M6)上，且其中該安裝力(F)的有效線(W_F)與該重力(G)的有效線(W_G)重合，或者在該基板內(nèi)與該重力(G)的有效線(W_G)相距一距離(B)，該距離小于縱向范圍(L)的0.1倍，該縱向范圍為該反射鏡元件(M6)在關(guān)于該重力(G)的有效線(W_G)的所有正交平面中的最大縱向范圍。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)配置，其中該反射鏡基板(34)至少實質(zhì)具有板的形狀，且其中該重力(G)的有效線(W_G)位于與該反射區(qū)域(36)相距大于該板的最小厚度(D)的距離(A)處。

3.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)配置，其中該反射鏡基板(34)在該反射區(qū)域(36)承載反射涂層(37)。

4.一種微光刻投射曝光裝置的鏡頭，包含如前述權(quán)利要求中任一項所述的光學(xué)配置(40)。

5.一種微光刻投射曝光裝置的照明系統(tǒng)，包含如權(quán)利要求1至3中任一項所述的光學(xué)配置(40)。