[發(fā)明專利]于抗蝕劑應(yīng)用中作為光酸生成劑的磺酸衍生化合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580049700.2
• 申請日: 2015-08-27
• 公開（公告）號: CN106715398B
• 公開（公告）日: 2021-11-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張永強;R·B·夏爾馬;R·斯塔克;D·格林;R·古普塔;J·D·佛格萊
• 申請（專利權(quán)）人: 賀利氏電子化工有限責任公司
• 主分類號: C07D221/14
• 分類號: C07D221/14;G03F7/027;G03F7/038
• 代理公司: 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉媛媛

1.一種由式(I)表示的磺酸衍生化合物，

其中

X為硫(S)原子；

R¹、R²、R³、R⁴及R⁵各自為氫(H)原子；

R⁰選自由以下組成的群組：

具有1至3的碳數(shù)的烷基，其中一或多個氫原子可經(jīng)鹵素原子取代；

R⁶選自由以下組成的群組：

具有1至18的碳數(shù)的脂肪族基團，其可經(jīng)一或多個鹵素原子取代；及

具有4至18的碳數(shù)的芳基，其中一或多個氫原子可經(jīng)鹵素原子或脂肪族基團取代。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磺酸衍生化合物，其中式(I)中的R⁰為具有1至3個碳原子的烷基。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磺酸衍生化合物，其中R⁰選自由甲基、丙基及異丙基組成的群組。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磺酸衍生化合物，其中R⁶為具有1至18的碳數(shù)的脂肪族基團，其可經(jīng)一或多個鹵素原子取代。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磺酸衍生化合物，其中R⁶為具有1至6的碳數(shù)的脂肪族基團。

6.一種磺酸衍生化合物，其選自由以下組成的群組：

及

7.一種光致抗蝕劑組合物，其包含：

(i)至少一種光酸生成劑，所述光酸生成劑包含根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述的磺酸衍生化合物；

(ii)至少一種光致抗蝕劑聚合物或共聚物，其能夠在酸存在下賦予改變的水溶液溶解度；

(iii)有機溶劑；及任選地，

(iv)添加劑。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的組合物，其中所述至少一種光致抗蝕劑聚合物或共聚物為聚(羥基苯乙烯)-樹脂，其中所述羥基的至少一部分經(jīng)保護基取代。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的組合物，其中所述保護基選自由叔丁氧基羰氧基、叔丁氧基、叔戊氧基羰氧基及縮醛基團組成的群組。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的組合物，其中所述至少一種有機溶劑(iii)選自由酮、醚及酯組成的群組。

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的組合物，其包含：

0.05重量％至15重量％的所述至少一種光酸生成劑；

5重量％至50重量％的所述至少一種光致抗蝕劑聚合物或共聚物；

0重量％至10重量％的所述添加劑；及

剩余有機溶劑。

12.一種在襯底表面上產(chǎn)生圖案化結(jié)構(gòu)的方法，所述方法包含以下步驟：

(a)將根據(jù)權(quán)利要求7-11任一項所述的組合物的層涂覆至所述襯底表面上并至少部分地移除有機溶劑(iii)；

(b)將所述層曝露于電磁輻射，由此將酸自化合物(i)釋放至曝露于所述電磁輻射的區(qū)域中；

(c)任選加熱所述層以在釋放所述酸的所述區(qū)域中賦予化合物(ii)增加的水溶液溶解度；及

(d)在這些區(qū)域中用水溶液至少部分地移除所述層。