[發明專利]用于對插管的患者進行成像的設備和系統在審
| 申請號: | 201580048934.5 | 申請日: | 2015-09-08 |
| 公開(公告)號: | CN107072588A | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發明(設計)人: | S.M.文;T.J.哈文斯;T.J.伯格菲爾德 | 申請(專利權)人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號: | A61B5/055 | 分類號: | A61B5/055 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 徐予紅,付曼 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 插管 患者 進行 成像 設備 系統 | ||
1.一種用于磁共振成像(MRI)系統的梯度線圈設備,包括:
圓柱梯度線圈組合件,具有沿軸的長度,并且包括X梯度線圈、Y梯度線圈和Z梯度線圈;
所述梯度線圈組合件還包括插管通道,其中所述插管通道從所述軸并且沿所述長度的至少一部分徑向延伸。
2.如權利要求1所述的梯度線圈設備,其中,所述插管通道沿所述梯度線圈組合件的整個長度延伸。
3.如權利要求1所述的梯度線圈設備,其中,所述插管通道僅沿所述梯度線圈組合件的所述長度的一部分延伸。
4.如權利要求1所述的梯度線圈設備,其中,所述插管通道徑向延伸通過所述X梯度線圈和所述Y梯度線圈。
5.如權利要求4所述的梯度線圈設備,其中,所述Z梯度線圈包括主層和屏蔽層,并且其中所述插管通道徑向延伸通過所述主層,但是沒有延伸通過所述屏蔽層。
6.如權利要求1所述的梯度線圈設備,其中,所述插管通道徑向延伸通過所述X梯度線圈、所述Y梯度線圈和所述Z梯度線圈。
7.如權利要求1所述的梯度線圈設備,其中,所述X梯度線圈、Y梯度線圈和所述Z梯度線圈各包括主層和屏蔽層,并且其中所述插管通道徑向延伸通過所述主層,但是沒有延伸通過所述屏蔽層。
8.如權利要求1所述的梯度線圈設備,其中,所述梯度線圈組合件確定大小以用于新生兒成像。
9.一種用于磁共振成像(MRI)系統的梯度線圈設備,包括:
具有沿軸的長度并且包括X梯度線圈、Y梯度線圈和Z梯度線圈的梯度線圈組合件,其中對于所述長度的至少一部分,所述梯度線圈組合件具有與所述軸垂直的C形截面。
10.如權利要求9所述的梯度線圈設備,其中,所述C形截面沿所述梯度線圈組合件的所述整個長度延伸。
11.如權利要求9所述的梯度線圈設備,其中,所述梯度線圈組合件確定大小以用于新生兒成像。
12.一種磁共振成像(MRI)系統,包括:
磁體,配置成建立磁場;
患者定位區域;以及
與所述患者定位區域相鄰的梯度線圈組合件,所述梯度線圈組合件具有插管通道。
13.如權利要求12所述的MRI系統,其中,所述梯度線圈組合件具有沿軸的長度,并且包括X梯度線圈、Y梯度線圈和Z梯度線圈,以及所述插管通道沿所述長度的至少一部分延伸。
14.如權利要求12所述的MRI系統,其中,所述插管通道沿所述梯度線圈組合件的所述整個長度延伸。
15.如權利要求12所述的MRI系統,其中,所述插管通道徑向延伸通過所述X梯度線圈和所述Y梯度線圈。
16.如權利要求12所述的MRI系統,其中,所述插管通道徑向延伸通過所述X梯度線圈、所述Y梯度線圈和所述Z梯度線圈。
17.如權利要求12所述的MRI系統,其中,所述X梯度線圈、Y梯度線圈和所述Z梯度線圈各包括主層和屏蔽層,并且其中所述插管通道徑向延伸通過所述主層,但是沒有延伸通過所述屏蔽層。
18.如權利要求12所述的MRI系統,其中,所述梯度線圈組合件確定大小以用于新生兒成像。
19.一種用于磁共振成像(MRI)系統的梯度線圈設備,包括:
梯度線圈組合件,其沿軸是圓柱的,并且具有沿所述軸的長度,所述梯度線圈組合件包括X梯度線圈、Y梯度線圈和Z梯度線圈;
其中所述梯度線圈組合件具有與所述軸垂直的截面,包括連續外圓周和不連續內圓周,所述梯度線圈組合件具有在所述內圓周的不連續部分與所述連續外圓周之間所定義的插管通道。
20.如權利要求19所述的梯度線圈設備,其中,所述梯度線圈組合件確定大小以用于新生兒成像。
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