[發明專利]用于拋光硬表面的拋光材料、包括所述材料的介質及其形成和使用方法

有效

• 申請號: 201580047761.5
• 申請日: 2015-06-24
• 公開（公告）號: CN106661434B
• 公開（公告）日: 2019-10-01
• 發明（設計）人: S·達斯科維奇;B·芒西;G·瓦希爾茲克
• 申請（專利權）人: JH羅得股份有限公司
• 主分類號: C09K3/14
• 分類號: C09K3/14
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 胡嘉倩;陸蔚

1.一種硬表面拋光材料，所述材料包括：

硬段；

軟段；以及

0重量％至80重量％的填料材料，

一種或多種發泡劑和泡孔穩定劑，

其中，所述硬段與軟段的重量比大于或等于0.95:1；

所述硬段通過將一種或多種芳族多異氰酸酯、芳族多異氰酸酯衍生物和芳族多異氰酸酯產物與一種或多種分子量為60-150Da的低聚活性氫化合物反應而形成；

所述軟段通過將一種或多種多異氰酸酯、多異氰酸酯衍生物和多異氰酸酯產物與一種或多種第二化合物反應而形成；

通過將硬段認為是聚合物結構中芳族部分加上60-150Da低聚部分的分子量減去聚合物結構中二醇和/或胺和異氰酸酯N＝C＝O部分的分子量，而將軟段認為是聚合物結構中的150-6000Da部分，來計算硬段：軟段的重量比。

2.如權利要求1所述的硬表面拋光材料，其特征在于，所述硬段與軟段的重量比大于或等于1.05:1。

3.如權利要求1所述的硬表面拋光材料，其特征在于，所述硬段與軟段的重量比大于或等于1.1:1。

4.如權利要求1所述的硬表面拋光材料，其特征在于，所述軟段通過將一種或多種芳族或脂族多異氰酸酯、多異氰酸酯衍生物和多異氰酸酯產物與一種或多種分子量為150-6000Da的低聚活性氫化合物反應而形成。

5.如權利要求1所述的硬表面拋光材料，其特征在于，所述硬表面拋光材料的藍寶石拋光去除速率為大于或等于2微米/小時。

6.如權利要求1-5中任一項所述的硬表面拋光材料，其特征在于，所述硬表面拋光材料包括聚氨酯泡沫。

7.如權利要求1-5中任一項所述的硬表面拋光材料，其特征在于，所述硬表面拋光材料包括聚脲泡沫。

8.如權利要求1-5中任一項所述的硬表面拋光材料，其特征在于，所述硬表面拋光材料包括混合的聚氨酯-聚脲泡沫。

9.如權利要求1-5中任一項所述的硬表面拋光材料，其特征在于，所述硬表面拋光材料的硬度范圍為10-80邵氏D硬度。

10.如權利要求1-5中任一項所述的硬表面拋光材料，其特征在于，所述硬表面拋光材料的體相密度范圍為0.2-1.2g/cm³。

11.一種拋光硬表面材料的方法，所述方法包括以下步驟：

使用權利要求1所述的硬表面拋光材料從包括藍寶石、紅寶石、祖母綠、陶瓷、鈦中一者或多者的表面去除材料。

12.如權利要求11所述的方法，其特征在于，產率大于或等于80％。

13.如權利要求11所述的方法，所述方法還包括如下步驟：

提供拋光設備；以及

將所述硬表面拋光材料固定在拋光設備的一部分。

14.如權利要求11所述的方法，所述方法還包括如下步驟：

提供拋光漿料；以及

使用所述拋光漿料和所述硬表面拋光材料從所述表面去除材料。

15.如權利要求11-14中任一項所述的方法，其特征在于，所述表面包括藍寶石，從所述表面去除材料的材料去除速率大于或等于2微米/小時。

16.如權利要求11-14中任一項所述的方法，其特征在于，所述方法包括提供適用于電子顯示器應用的表面精整。