[發明專利]濺射裝置在審
| 申請號： | 201580047418.0 | 申請日： | 2015-07-15 |
| 公開（公告）號： | CN106715749A | 公開（公告）日： | 2017-05-24 |
| 發明（設計）人： | 山本弘輝;難波隆宏;神井正敦;小梁慎二;近藤智保;森本直樹 | 申請（專利權）人： | 株式會社愛發科 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;H01L43/12 |
| 代理公司： | 北京英特普羅知識產權代理有限公司11015 | 代理人： | 齊永紅 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濺射 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種濺射裝置，包括在設置了絕緣材料靶的真空室內保持待處理基板與該絕緣材料靶相對的臺架，設置有旋轉驅動臺架的驅動裝置，向絕緣材料靶施加高頻電力的濺射電源，以及向真空室內導入稀有氣體的氣體導入裝置，其特征在于：
在該濺射裝置中，基板與絕緣材料靶的濺射面之間的間隔設置在40mm～150mm的范圍內；
所述絕緣材料靶由配置在與臺架所保持的基板平行的同一平面內且分別從該基板的中心以不同偏移量偏移的、面積小于所述基板的面積的至少兩片同種類的靶材構成。
2.根據權利要求1所述的濺射裝置，其特征在于：
還包括設置在所述平面內且具有吸氣作用的金屬制成的另一靶，以及向該另一靶施加直流電力的另一濺射電源。
3.根據權利要求2所述的濺射裝置，其特征在于：
包括有選擇地屏蔽所述絕緣材料靶和所述另一靶的基板側的面的屏蔽裝置。
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