[發明專利]復合半透膜、分離膜元件、及其制造方法

在審

• 申請號: 201580046298.2
• 申請日: 2015-08-28
• 公開（公告）號: CN106794433A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 水池敦子;越前將;松井和彩;山口泰輔
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: B01D69/10
• 分類號: B01D69/10;B01D65/10;B01D69/12;G01N21/88
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所11256
• 代理人: 楊宏軍,牛蔚然

1.復合半透膜，其是在多孔性支撐體的表面具有分離功能層的復合半透膜，所述多孔性支撐體是在無紡布層的單面具有聚合物多孔層的多孔性支撐體，所述復合半透膜的特征在于，

所述多孔性支撐體在利用透射光測得的缺陷的大小與頻度的關系方面具有下述關系：與聚合物多孔層的制膜生產線方向垂直的寬度為0.3mm以上的缺陷的頻度F1為50個/480m²以下。

2.如權利要求1所述的復合半透膜，其中，所述多孔性支撐體在利用透射光測得的缺陷的大小與頻度的關系方面具有下述關系：與聚合物多孔層的制膜生產線方向垂直的寬度小于0.3mm的缺陷的頻度F2為30個/480m²以下。

3.如權利要求1或2所述的復合半透膜，其中，所述多孔性支撐體的所述頻度F1為20個/480m²以下。

4.如權利要求1～3中任一項所述的復合半透膜，其中，所述聚合物多孔層的厚度為10～35μm。

5.分離膜元件，其是使用了權利要求1～4中任一項所述的復合半透膜的分離膜元件。

6.復合半透膜的制造方法，所述方法包括在多孔性支撐體的表面形成分離功能層的工序，所述多孔性支撐體是在無紡布層的單面具有聚合物多孔層的多孔性支撐體，所述方法的特征在于，

所述多孔性支撐體在利用透射光測得的缺陷的大小與頻度的關系方面具有下述關系：與聚合物多孔層的制膜生產線方向垂直的寬度為0.3mm以上的缺陷的頻度F1為50個/480m²以下。

7.如權利要求6所述的復合半透膜的制造方法，包括下述工序：在對長尺寸的多孔性支撐體進行輸送的同時，向所述多孔性支撐體照射光，利用透射光對缺陷的大小與頻度的關系進行連續測定。